[發明專利]等離子體產生裝置、等離子體外科手術裝置以及等離子體外科手術裝置的應用有效
| 申請號: | 200680030225.5 | 申請日: | 2006-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN101243732A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | N·蘇斯洛夫;I·魯賓納 | 申請(專利權)人: | 普拉斯馬外科股份公司;普拉斯馬外科投資有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34;H05H1/28 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 范莉 |
| 地址: | 瑞典默*** | 國省代碼: | 瑞典;SE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 產生 裝置 外科手術 以及 應用 | ||
1.一種等離子體產生裝置,包括:
陽極;
陰極;
等離子體槽道,該等離子體槽道沿縱向在所述陰極和所述陽極之間延伸并穿過所述陽極,并有在最遠離所述陰極的端部處的出口開口;
至少一個中間電極,該中間電極布置成至少局部在所述陽極和所述陰極之間,所述至少一個中間電極和所述陽極至少形成等離子體槽道的一部分,所述至少一個中間電極相互電絕緣并與所述陽極電絕緣;以及
至少一個冷卻劑槽道,該冷卻劑槽道沿縱向在裝置中延伸,并有在最靠近陽極的端部處的至少一個出口開口,因此,流過所述冷卻劑槽道的冷卻劑液體冷卻該裝置的、鄰近至少一個冷卻劑槽道的部分;
冷卻劑槽道的所述至少一個出口開口布置得緊鄰所述等離子體槽道在最遠離陰極的端部處的出口開口,因此,流出冷卻劑槽道的所述至少一個出口開口的冷卻劑液體限制了等離子體作用區域。
2.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:冷卻劑槽道的出口開口布置在陽極中。
3.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:所述冷卻劑槽道的主要部分基本平行于所述等離子體槽道。
4.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:冷卻劑槽道在它的所述出口開口處的方向相對于所述等離子體槽道在最遠離陰極的等離子體槽道開口處的方向的角度在+30和-30度之間。
5.根據權利要求4所述的等離子體產生裝置,其中:冷卻劑槽道在它的所述出口開口處的方向基本平行于等離子體槽道在最遠離陰極的等離子體槽道出口開口處的方向。
6.根據權利要求4所述的等離子體產生裝置,其中:冷卻劑槽道在它的出口開口處朝著等離子體槽道成一定角度。
7.根據權利要求4所述的等離子體產生裝置,其中:冷卻劑槽道在它的出口開口處離開等離子體槽道成一定角度。
8.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:在工作過程中,冷卻劑液體沿從陰極至陽極的方向流過所述冷卻劑槽道。
9.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:所述冷卻劑槽道的一部分沿所述至少一個中間電極延伸。
10.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:所述冷卻劑槽道的一部分沿所述至少一個中間電極的外周延伸。
11.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,還包括:套筒,該套筒與陽極連接,該套筒形成冷卻劑槽道的沿徑向外側定位的邊界表面的一部分。
12.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:所述至少一個中間電極形成冷卻劑槽道的沿徑向內側定位的邊界表面的一部分。
13.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:在工作過程中,冷卻劑液體在1ml/s和5ml/s之間的速率下流過所述冷卻劑槽道。
14.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,其中:所述至少一個冷卻劑槽道有至少兩個出口開口。
15.根據權利要求14所述的等離子體產生裝置,其中:所述至少一個出口開口的所述至少兩個出口開口布置得環繞等離子體槽道的所述出口開口。
16.根據權利要求15所述的等離子體產生裝置,其中:所述至少一個冷卻劑槽道有至少四個出口開口。
17.根據權利要求16所述的等離子體產生裝置,其中:該至少一個冷卻劑槽道的開口的截面為細長形。
18.根據權利要求1所述的等離子體產生裝置,還包括:兩個或更多冷卻劑槽道。
19.一種等離子體外科手術裝置,包括如權利要求1所述的等離子體產生裝置。
20.如權利要求19所述的等離子體外科手術裝置的應用,它用于生物組織的破壞或凝結。
21.根據權利要求20所述的應用,它用于心臟或腦外科手術。
22.根據權利要求20所述的應用,它用于肝、脾或腎的外科手術。
23.根據權利要求20所述的應用,它用于整形和美容外科手術中的皮膚治療。
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