[發明專利]光調制器及其制造方法

無效

• 申請號: 200680028489.7
• 申請日: 2006-09-27
• 公開（公告）號: CN101238404A
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 神力孝;近藤勝利;齊藤勉
• 申請（專利權）人: 住友大阪水泥股份有限公司
• 主分類號: G02F1/035
• 分類號: G02F1/035
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李香蘭

技術領域

本發明涉及光調制器，尤其涉及包括薄板和增強板的光調制器，其中上述薄板由具有電光學效果的材料形成，并且其厚度為20μm以下，上述增強板與該薄板的背面粘接且厚度比該薄板厚。

背景技術

以往，在光通信領域或光測定領域上，經常采用在具有電光學效果的基板上形成有光波導或調制電極的波導式光調制器。

在利用了具有電光學效果的基板的光調制器中，如專利文獻1或2等，通過將如圖1所示的導電膜形成在基板的側面及背面并使之接地，從而抑制向光調制器所施加的微波在基板內共振的共振現象的發生、或在基板內所產生的熱電效果。另外，能夠提高電特性(S11、S21)、或抑制Baisjump等。S11是指電信號的反射特性，是一種對從外部端子輸入到信號電極時的反射量進行測定而得到的特性。S21是指電信號的透過特性，是一種對所輸出的信號相對于從外部端子輸入到信號電極的信號的透過量進行測定而得到的特性。一般而言，被稱為浸漬(dip)的現象是通過該透過特性(S21)來所表現的。另外，Baisjump是指，當X板時，因熱電效果的影響而在基板的側面產生電荷，而該電荷對形成在基板上的電極帶來不良影響的情況。

此外，圖1是光調制器的剖視圖，1表示基板、2表示光波導、3表示緩沖層、4表示信號電極、5表示接地電極、6表示導電膜。以下，將信號電極4和接地電極5加在一起稱為調制電極。

專利文獻1：特表平5-509415號公報

專利文獻2：特許第2919132號公報

另一方面，為了實現光調制器的寬帶化，通過將基板的厚度由現有的500μm左右縮小到幾十μm，從而滿足微波與光波的速度的速度匹配條件，并且同時實現驅動電壓的降低。

例如，在以下的專利文獻3或4中，在具有30μm以下的厚度的薄基板上，裝入光波導以及調制電極，將介電常數比第一基板低的其它基板接合，降低相對于微波的有效折射率，實現微波與光波的速度匹配、并且維持基板的機械強度。

專利文獻3：特開昭64-18121號公報

專利文獻4：特開2003-215519號公報

然而，在薄板化的基板(以下，成為“薄板”)的側面形成了上述的導電膜時，由于基板的厚度薄，而且薄板側面的面積極小，因此基板與導電膜的接合力弱，從而發生導電膜與基板容易剝離的不良情況。

另外，因基板變薄而導致在光波導上傳播的光波約束減弱，結果產生光波的光分布在橫向(與薄板的厚度方向垂直的方向)或薄板的厚度方向上擴展的現象，假如，當在基板的背面形成有導電膜時，會產生因該導電膜而導致光波被散射或吸收等不良情況。

發明內容

本發明所要解決的課題是解決上述的問題，提供一種光調制器及其制造方法，該光調制器采用了厚度為20μm以下的薄板，并且能夠穩定地保持對基板內的微波的共振現象或熱電效果等不良情況進行抑制的導電膜。

為了解決上述課題，本發明之一的光調制器，包括：厚度為20μm以下的薄板，其由具有電光學效果的材料形成；光波導，其形成在該薄板的表面或背面；和調制電極，其形成在該薄板的表面，用于對通過該光波導內的光進行調制；上述光調制器具有：增強板，其被接合在該薄板的背面；和導電膜，其從該薄板的側面到該增強板的側面連續地形成。

此外，該薄板的背面與增強板的接合，既可為直接接合、也可為基于粘接劑等的接合，當形成有采用粘接劑的粘接劑層的情況下，該導電膜從該薄板的側面起隔著粘接劑層而連續地形成至該增強板的側面。

本發明之二，是在本發明之一的光調制器中，該導電膜還形成在該增強板的背面。

本發明之三的光調制器，包括：厚度為20μm以下的薄板，其由具有電光學效果的材料形成；光波導，其形成在該薄板的表面或背面；和調制電極，其形成在該薄板的表面，用于對通過該光波導內的光進行調制；在該薄板的背面隔著粘接層接合增強板；在該粘接層與該增強板之間形成有導電膜。

本發明之四，是在本發明之三的光調制器中，具有導電膜，該導電膜從該薄板的側面到該增強板的側面連續地形成。

本發明之五，在在本發明之一～本發明之四中任一項所述的光調制器中，形成該導電膜的材料包含Au、Ti、Si的至少某一個。