[發明專利]制備芳族二羥基二酰二鹵的方法以及由該方法制備的沉淀物無效
| 申請號: | 200680025708.6 | 申請日: | 2006-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN101258124A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發明(設計)人: | K·-S·李 | 申請(專利權)人: | 納幕爾杜邦公司 |
| 主分類號: | C07C51/60 | 分類號: | C07C51/60;C07C65/11;C07C65/03;C08G63/60 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 劉冬;范赤 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 芳族二 羥基 二酰二鹵 方法 以及 沉淀物 | ||
發明背景
1.發明領域
本發明涉及一種合成芳族二羥基二酰二鹵的方法以及由所述方法制備的沉淀物。
2.相關領域的描述
在現有技術中將芳族二羥基二酸轉化為可分離的芳族二羥基二酰二鹵需要使用溶劑。否則,芳環上的羥基使得化合物自聚合。
美國專利3,515,695公開了使用脂族醚作為反應介質,由2,5-二羥基對苯二酸制備2,5-二羥基對苯二甲酰氯。但是,芳族二羥基二酸在脂族醚中溶解性有限,需要延遲加熱時間以轉化為二羥基二酰二鹵。
美國專利3,515,695公開了通過加熱24小時將2,5-二羥基對苯二甲酸轉化為2,5-二羥基對苯二甲酰氯。
需要一種合成芳族二羥基二酰二鹵和沉淀物的新型方法。
發明概述
本發明涉及一種制備芳族二羥基二酰二鹵的方法,所述方法包括以下步驟:
a)形成芳族二羥基二酸在溶劑中的溶液,條件是在步驟(c)中形成的芳族二羥基二酰二鹵溶于所述溶劑中;
b)將所述芳族二羥基二酸溶液與鹵化劑接觸;
c)在惰性氣氛下加熱所述溶液,將50-100%的芳族二羥基二酸轉化為芳族二羥基二酰二鹵,其中轉化所需的時間小于4小時;和
d)除去至少一部分所述溶劑。
當除去至少一部分溶劑時,形成包含占這兩種組分重量的99-75%的芳族二羥基二酰二鹵和1-25%的溶劑的沉淀物。
發明詳述
在發明概述中所述的由方法步驟(a)、(b)、(c)和(d)制得的芳族二羥基二酰二鹵具有以下結構:
其中AR表示整個芳環體系。優選AR為分別用結構(b)和(c)所示的萘基(naphthalenic?group)或更優選為苯基(benzoic?group)。
優選酰鹵團(-CXO)在羥基(-OH)的鄰位。X可各自獨立為氟、氯、溴或碘。優選X各自獨立為氯或溴。
優選的芳族二羥基二酰二鹵為分別由結構(d)-(f)所示的1,5-二羥基-2,6-萘甲酰(二)氯、2,6-二羥基-1,5-萘甲酰(二)氯或2,5-二羥基對苯二甲酰(二)氯或其混合物。最優選的芳族二羥基二酰二鹵為2,5-二羥基對苯二甲酰(二)氯。
本發明的方法步驟(a)包括形成芳族二羥基二酸在溶劑中的溶液。所述芳族二羥基二酸具有以下結構:
其中AR如上定義,且優選羧基與不同的羥基互為鄰位。優選AR為萘基或苯基,其中苯基為最優選的芳環體系。
優選的芳族二羥基二酸為以下結構(h)-(j)所示的1,5-二羥基-2,6-萘二甲酸、2,6-二羥基-1,5-萘二甲酸或2,5-二羥基對苯二甲酸。最優選的苯基芳族二羥基二酸為2,5-二羥基對苯二甲酸。
用于方法步驟(a)的合適的溶劑包括環狀醚、四氫呋喃、四氫吡喃及其混合物。優選環狀醚。通常在與所述溶劑、芳族二羥基二酸或其他反應物基本不起化學反應的惰性氣氛下,在機械攪拌下將二羥基二酸加至溶劑中。合適的惰性氣氛包括但不局限于氮氣、氦氣和稀有氣體。
優選二羥基二酸溶液的濃度為0.05-1摩爾二酸/升溶液。更優選所得到的二羥基二酸溶液的濃度為約0.1-0.5摩爾二酸/升溶液。加入二羥基二酸可在溶劑為液體的溫度下進行。在大多數情況下,溫度為-5至65℃。
方法步驟(b)包括將所述芳族二羥基二酸溶液與鹵化劑接觸。術語“鹵化劑”是指與芳族二羥基二酸反應將芳族二羥基二酸轉化為芳族二羥基二酰二鹵的物質。典型的鹵化劑包括但不局限于亞硫酰氯、亞硫酰溴、光氣、氯、溴及其混合物。優選的鹵化劑為亞硫酰氯。
可在惰性氣氛下將鹵化劑加至二羥基二酸的溶液中。在加至二羥基二酸溶液之前,可任選將鹵化劑溶解于溶劑中。優選任選的溶劑為用于形成步驟的相同的溶劑。如果鹵化劑使用任選的溶劑,則所述溶劑應最好不使二羥基二酸或二羥基二酰二鹵不溶于混合溶劑中。
鹵化劑和二羥基二酰二鹵為活性很高的化合物,暴露于水中可引起不合乎需要的反應發生。因此,可在暴露于最小濕度的環境下進行反應。例如如果鹵化劑為液體,可在干燥的惰性氣氛例如氮氣下,將液體加至芳族二酸溶液。如果鹵化劑為氣體,可在基本為惰性且低濕氣氛下與芳族二酸溶液接觸,以避免無用的反應。優選鹵化劑為液體。基于將100%的芳族二羥基二酸轉化為芳族二羥基二酰二鹵所需的量,優選存在的鹵化劑化學計量過量。
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