[發(fā)明專利]借助底漆將膠粘體粘結(jié)到基底上

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680016061.0
• 申請日: 2006-05-10
• 公開（公告）號: CN101175868A
• 公開（公告）日: 2008-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·利德利;N·謝潑爾;L·奧尼爾;F·古貝爾斯
• 申請（專利權(quán)）人: 陶氏康寧愛爾蘭有限公司
• 主分類號: C23C16/02
• 分類號: C23C16/02
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 張欽

[000]本發(fā)明公開了在膠粘體和基底之間提供增加的粘合性的方法。膠粘體可以是在基底上的涂層(其中包括但不限于粘合劑或密封劑的涂層)，或者可以是涂布在首先提及的基底粘結(jié)于其上的第二基底上的粘合層。

[0002]本發(fā)明利用底漆層以增加膠粘體與基底之間的粘合性。底漆強(qiáng)烈地粘結(jié)到基底和膠粘體上。

[0003]已利用等離子技術(shù)預(yù)處理基底表面，以改進(jìn)隨后施加的涂層的粘合性。等離子預(yù)處理的作用可包括清潔、降解和燒蝕聚合物基底的表面區(qū)域，交聯(lián)聚合物基底的表面區(qū)域，導(dǎo)致引入極性基團(tuán)例如羰基到基底的表面區(qū)域內(nèi)的氧化，和/或在基底的表面區(qū)域內(nèi)離子植入。WO-A-02/098962公開了通過將基底暴露于含硅化合物和通過氧化或還原、使用等離子體(尤其是大氣輝光放電或介質(zhì)阻擋放電或電暈處理)后處理該處理過的表面，從而涂布低能基底表面的方法。

[0004]EP-A-431951公開了用流出平行板反應(yīng)器的氣體處理基底的系統(tǒng)。它包括使氣體流經(jīng)一個或多個平行板反應(yīng)器并允許流出的物質(zhì)同與氣體出口相鄰放置的基底相互作用。Gherardi，N.等人的J.Phys?D：Appl.Phys，2000，33，L104-L108公開了通過使N₂、SiH₄和N₂的混合物穿過在兩個平行電極之間形成的介質(zhì)阻擋放電(DBD)等離子體，產(chǎn)生二氧化硅涂層。允許流出反應(yīng)器的物質(zhì)沉積在下游的基底上。

[0005]Inagaki等人在Int.J.Adhesion?Adhesives，2，233，1982中公開了通過注射三甲基甲硅烷基二甲胺或六甲基二硅氮烷到氬氣輝光放電中，處理數(shù)種不同的塑料基底。

[0006]WO-A-02/28548公開了通過引入霧化的液體和/或固體涂層形成材料到大氣壓等離子放電和/或由其形成的電離氣體物流內(nèi)，并在大氣壓條件下，將基底暴露于霧化的涂層形成材料下，從而在基底上形成涂層的方法。WO-A-03/097245公開了其中霧化的涂層形成材料在離開霧化器后穿過激發(fā)介質(zhì)到達(dá)遠(yuǎn)離激發(fā)介質(zhì)布置的基底上的方法。

[0007]已利用四甲基二硅氧烷的輝光放電聚合，在鉑線材上沉積30nm厚的底漆層，之后用數(shù)微米厚的聚(對二甲苯)層涂布(Nichols等人的J.Appl.Polymer.Sci.，Appl.Polymer?Symp，38，21，1984)。

[0008]WO-A-99/20809公開了下述方法：其中在從包圍電極的導(dǎo)電環(huán)形腔室的閉合端流動到開放端的氣體內(nèi)，將氣體前體引入到無電弧的大氣壓RF等離子放電中，以便該前體與反應(yīng)性物質(zhì)在等離子體內(nèi)反應(yīng)，形成經(jīng)氣體噴嘴的開放端流出并沉積在噴嘴路徑內(nèi)放置的基底上的材料。EP1230414公開了涂布表面的方法，其中通過傳輸工作氣體通過激發(fā)區(qū)域，產(chǎn)生等離子體射流，其中在所述激發(fā)區(qū)域內(nèi)，通過施加高頻AC電壓到電極上，產(chǎn)生電弧放電。將前體獨(dú)立于工作氣體引入到等離子射流內(nèi)。在等離子體射流的輔助下引發(fā)前體的反應(yīng)，并在待涂布的表面上沉積反應(yīng)產(chǎn)物。

[0009]在將膠粘體粘結(jié)到基底上的本發(fā)明方法中，通過等離子體沉積，施加底漆到基底上，并將膠粘體粘結(jié)到基底的底漆處理過的表面上，和底漆包含可化學(xué)鍵合到膠粘體的官能團(tuán)上的官能團(tuán)。

[0010]膠粘體可以是在底漆上施加的涂層，或者可以是涂布在首先提及的基底粘結(jié)于其上的第二基底上的粘合層。

[0011]因此，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，本發(fā)明包括涂布的制品，該制品包括用施加在底漆上的涂層涂布的基底，其特征在于通過等離子體沉積施加底漆到基底上，和膠粘體包含可化學(xué)鍵合到底漆內(nèi)的官能團(tuán)上的官能團(tuán)。

[0012]根據(jù)進(jìn)一步的方面，本發(fā)明包括粘結(jié)的制品，該制品包括通過施加在至少一個基底上的底漆上的粘合劑粘結(jié)的兩個基底，其特征在于通過等離子體沉積施加底漆到基底上，和膠粘體包含可化學(xué)鍵合到底漆內(nèi)的官能團(tuán)上的官能團(tuán)。

[0013]沉積底漆所使用的等離子體優(yōu)選為非平衡的大氣壓等離子體。可以例如在具有入口和等離子體出口的電介質(zhì)外殼內(nèi)生成這種等離子體，其中工藝過程氣體經(jīng)所述電介質(zhì)外殼從入口經(jīng)過至少一個電極流動到出口。待處理的基底可與等離子體出口相鄰地布置，以便基底接觸等離子體，并相對于等離子體出口移動。