[發明專利]測量透光基板中尺寸變化的方法和裝置

有效

• 申請號: 200680014608.3
• 申請日: 2006-04-20
• 公開（公告）號: CN101495939A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發明（設計）人: R·L·福克斯;K·C·坎恩;A·J·普里斯科達
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G06F1/28
• 分類號: G06F1/28;G06F15/00;G01N21/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 李 玲

1.一種測量透光基板中尺寸變化的方法，包括：

在參考板上形成參考標記的陣列，其中不對所述參考板進行造成其尺寸變化 的處理步驟；

在所述透光基板上形成基板標記的陣列；

將所述參考板和所述透光基板層疊成使所述參考標記和所述基板標記重疊；

在處理所述透光基板之前和之后相對于所述參考標記的坐標測量所述基板標 記的坐標；以及

從在處理所述透光基板之前和之后所測量的所述基板標記的坐標之間的差異 來確定所述透光基板中的尺寸變化。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述參考板和透光基板層疊發 生在處理所述透光基板之前和之后，并且還包括補償因在處理所述透光基板之前或 之后所述透光基板相對于所述參考板的定位差異造成的所述尺寸變化的誤差。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述參考板和所述透光基板層 疊包括將所述參考標記從所述基板標記偏移使得所述參考和基板標記都可見。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，測量所述基板標記的坐標包括獲 取所述參考標記和基板標記的圖像。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述參考標記的陣列與所述基板 標記的陣列就標記分布和形狀而言基本上相同。

6.一種測量透光基板中尺寸變化的系統，包括：

參考板，其中不對所述參考板進行造成其尺寸變化的處理步驟；

向所述參考板提供剛性支承的平臺；

成像裝置，在所述透光基板與所述參考板層疊時捕獲所述參考板和所述透光 基板上的標記的圖像；

定位裝置，將所述成像裝置置于所述平臺上所需位置；以及

處理器，相對于所述參考標記的坐標測量在處理所述透光基板之前和之后所 述基板標記的坐標，并從所測量的在處理所述透光基板之前和之后所述基板標記的 坐標之間的差異來確定所述透光基板中的尺寸變化。

7.如權利要求6所述的系統，其特征在于，所述參考板具有與所述透光基板 相似的熱膨脹系數。

8.如權利要求6所述的系統，其特征在于，還包括用于在所述參考板和所述 透光基板上形成標記的標記裝置。

9.如權利要求6所述的系統，其特征在于，還包括用于將所述參考板夾緊到 所述平臺的機構和/或用于將所述透光基板夾緊到所述參考板的機構。

10.如權利要求6所述的系統，其特征在于，還包括照明所述參考板和透光基 板上標記的一個或多個照明器。