[發(fā)明專利]曝光裝置、基板處理方法、以及器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680014495.7
• 申請日: 2006-06-29
• 公開（公告）號: CN101167162A
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 藤原朋春;中野勝志
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王永剛

1.一種曝光裝置，對形成有薄膜的基板照射曝光用光以使上述基板曝光，其特征在于，具備：

用以檢測上述基板上的薄膜形成狀態(tài)的檢測裝置。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

上述薄膜通過在上述基板上涂敷規(guī)定材料而形成；

上述檢測裝置檢測上述薄膜的涂敷狀態(tài)。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

具備用以在上述基板上形成液體的液浸區(qū)域的液浸機構；

經由上述液浸區(qū)域的液體將上述曝光用光照射于上述基板上。

4.如權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置在上述液浸區(qū)域形成于上述基板上前檢測出上述薄膜的形成狀態(tài)。

5.如權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于：

上述薄膜包含疏液性的膜。

6.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置以光學方式檢測上述薄膜的形成狀態(tài)。

7.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置具有用以將檢測光投射至上述基板上的投射系統(tǒng)、以及可接收經由上述基板的上述檢測光的受光系統(tǒng)。

8.如權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，具備：

存儲裝置，預先存儲上述薄膜的形成狀態(tài)與上述受光系統(tǒng)的受光狀態(tài)的關系；以及

辨別裝置，根據存儲于上述存儲裝置的上述關系與上述受光系統(tǒng)的受光結果，辨別上述薄膜的形成狀態(tài)是否為所希望的狀態(tài)。

9.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，具備：

用以保持上述曝光用光所照射的上述基板的保持構件；以及

可將上述基板搬送至上述保持構件的搬送裝置，

其中，上述檢測裝置設于上述搬送裝置的搬送路徑上。

10.如權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，具備：

控制裝置，根據上述檢測裝置的檢測結果來控制上述搬送裝置的動作。

11.如權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于：

具備設于上述搬送裝置的搬送路徑上、用以處理上述基板的處理裝置；

上述檢測裝置檢測搬入上述處理裝置的上述基板的薄膜形成狀態(tài)。

12.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

具備用以保持上述曝光用光所照射的上述基板的保持構件；

上述檢測裝置檢測處于由上述保持構件保持的狀態(tài)下的上述基板上的上述薄膜形成狀態(tài)。

13.如權利要求1至12中任一項所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置檢測上述基板邊緣的上述薄膜形成狀態(tài)。

14.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

薄膜形成狀態(tài)的檢測是檢測薄膜的存在。

15.一種曝光裝置，經由液體對基板照射曝光用光以使上述基板曝光，其特征在于，具備：

檢測裝置，檢測上述基板邊緣的狀態(tài)。

16.如權利要求15所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置檢測上述基板邊緣的薄膜形成狀態(tài)。

17.如權利要求16所述的曝光裝置，其特征在于：

上述薄膜通過在上述基板上涂敷規(guī)定材料而形成；

上述檢測裝置檢測上述基板邊緣的薄膜涂敷狀態(tài)。

18.如權利要求16所述的曝光裝置，其特征在于：

上述薄膜包含疏液性的膜。

19.如權利要求15所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置檢測在上述基板邊緣上是否存在有異物。

20.如權利要求15所述的曝光裝置，其特征在于：

上述檢測裝置在上述基板上的至少一部分形成上述液體的液浸區(qū)域前，檢測出上述邊緣的狀態(tài)。

21.如權利要求20所述的曝光裝置，其特征在于：

其進一步具備基板保持構件，能將上述基板保持于上述曝光用光所能照射的位置；

上述檢測裝置在將上述基板保持于上述基板保持構件前，檢測出上述邊緣的狀態(tài)。