[發明專利]載臺裝置及曝光裝置有效
| 申請號: | 200680007894.0 | 申請日: | 2006-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN101138070A | 公開(公告)日: | 2008-03-05 |
| 發明(設計)人: | 柴崎祐一 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027;G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 雒運樸;李偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 曝光 | ||
1.一種載臺裝置,其特征是,具備:
沿著基準面移動的第一及第二載臺;
計測沿著與上述基準面交叉的第一方向的、上述第一及第二載臺之間的第一間隙的第一計測裝置;
基于上述第一計測裝置的計測結果來調整上述第一間隙的第一調整裝置。
2.根據權利要求1所述的載臺裝置,其特征是,上述第一調整裝置在上述第一及第二載臺相互靠近之時,調整上述第一及第二載臺的至少一個載臺的沿著上述第一方向的位置。
3.根據權利要求1或2所述的載臺裝置,其特征是,上述第一調整裝置調整上述第一及第二載臺的至少一個載臺的沿著上述第一方向的位置,使得上述第一間隙達到0.1mm以下。
4.根據權利要求1至3中任意一項所述的載臺裝置,其特征是,上述第一方向與上述基準面正交。
5.根據權利要求1至4中任意一項所述的載臺裝置,其特征是,還具備:
計測沿著上述基準面的上述第一及第二載臺之間的第二間隙的第二計測裝置;
基于上述第二計測裝置的計測結果來調整上述第二間隙的第二調整裝置。
6.根據權利要求5所述的載臺裝置,其特征是,上述第二調整裝置調整上述第一及第二載臺的至少一個載臺的沿著上述基準面的位置,使得上述第二間隙達到0.5mm以下。
7.一種載臺裝置,其特征是,具備:
沿著基準面移動的第一及第二載臺;
計測上述第一及第二載臺的沿著上述基準面的各位置的計測裝置;
檢測上述第一載臺的上表面的邊緣及上述第二載臺的上表面的邊緣的檢測裝置;
基于上述計測裝置的計測結果和上述檢測裝置的檢測結果來調整上述第一及第二載臺的至少一個載臺的沿著上述基準面的位置的調整裝置。
8.根據權利要求7所述的載臺裝置,其特征是,上述調整裝置調整上述第一及第二載臺的至少一個載臺的沿著上述基準面的位置,使得沿著上述基準面的上述第一及第二載臺之間的第一間隙達到0.5mm以下。
9.根據權利要求7或8所述的載臺裝置,其特征是,還具備基于上述檢測裝置的上述檢測結果,算出沿著與上述基準面交叉的方向的上述第一及第二載臺之間的第二間隙的算出裝置。
10.根據權利要求1至9中任意一項所述的載臺裝置,其特征是,上述第一或第二載臺的一部分相對于另一方的載臺伸出。
11.一種曝光裝置,是經由液體將襯底曝光的曝光裝置,其特征是,具備權利要求1至6中任意一項所述的載臺裝置,上述第一計測裝置不經由上述液體地計測上述第一間隙。
12.一種曝光裝置,是經由液體將襯底曝光的曝光裝置,其特征是,具備權利要求7至10中任意一項所述的載臺裝置,上述檢測裝置不經由上述液體地檢測上述第一載臺的上表面的邊緣及上述第二載臺的上表面的邊緣。
13.根據權利要求11或12所述的載臺裝置,其特征是,上述第一載臺是保持上述襯底的襯底載臺,上述第二載臺是計測有關曝光的信息的計測載臺。
14.一種器件制造方法,具有曝光工序,其特征是,使用權利要求11至13中任意一項所述的曝光裝置。
15.一種為了進行浸液曝光而使浸液區域在相互可相對移動的第一構件和第二構件之間移動的方法,其特征是,具有:
在上述第一構件與上述第二構件之間移動液體的第一步驟;
在上述第一步驟之前,計測上述第一構件與上述第二構件的位置關系的第二步驟。
16.根據權利要求15所述的方法,其特征是,在上述第一步驟和上述第二步驟之間,還具有基于上述第二步驟中的計測來調整上述第一構件和上述第二構件之間的位置關系的第三步驟。
17.一種曝光方法,經由液體將保持在第一構件上的襯底曝光,其特征是,具有:
在上述第一構件、與可相對上述第一構件移動的第二構件之間使液體移動的第一步驟、
在上述第一步驟之前,計測上述第一構件與上述第二構件的位置關系的第二步驟。
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