[發明專利]床支承介體

有效

• 申請號: 200680007831.5
• 申請日: 2006-03-09
• 公開（公告）號: CN101137432A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: D·沃納;H·S·尼克納弗斯;D·C·舍曼
• 申請（專利權）人: 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
• 主分類號: B01J8/02
• 分類號: B01J8/02;B01J8/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 朱黎明

發明領域

本發明的示例實施方式涉及床支承介體(support?media)。其具體用于催化劑床的支承介體，并具體參照對其進行了描述。然而，應理解，本發明的示例實施方式還可以修改應用于其它類似的應用。

背景技術

一些催化反應器中，催化劑床由載體材料形成，載體材料通常包括顆粒要素，這些顆粒負載了催化材料，如金屬或金屬氧化物。如通常所知，載體或催化劑載體是普通的無機材料，如耐火的無機材料，例如氧化鋁-、氧化硅-或氧化鈦-基的化合物，或者它們的組合，如氧化鋁-氧化硅載體。載體還可以由碳基材料如木炭、活性炭或富勒烯(fullerene)形成。載體可以是多孔或開放結構，如環、蜂窩或車輪結構，提供大的幾何表面積負載催化劑。

在催化劑床相對較淺的情況中，該床可以負載在小孔板、交叉桿或者類似結構上。對較深的床，因床較重，催化劑床負載在塔中，在第二床，或支承床上，它們通常是由獨立的陶瓷球體形成。使用的球體是為了具有足夠的強度來支承催化劑床的重量，而在最下層球體的情況中，球體支承了支承床的總重量。這些球體的直徑一般大于它們支承的催化劑床的元件的直徑。支承床中球形元件因為元件之間的空間存在的空隙率按照百分數測定最大約為36％。這些空間或空隙會使反應物材料在與上面的催化劑床接觸之前或者之后從支承床通過，取決于流動方向。也可以使用球狀顆粒作為支承元件，這些球狀顆粒因其形狀，其空隙率可能略高于球體。

發明概述

根據本發明示例實施方式的一個方面，提供用于處理一種或多種流動材料的系統。該系統包括殼體和位于該殼體內的支承床，支承床包含許多的支承元件。支承床的空隙率至少為50％。殼體內的活性床由該支承床支承。支承床對一種或多種流動材料具有活性，以重量為基準，小于活性床的20％。

根據本發明示例實施方式的另一個方面，提供用于處理一種或多種流動材料的系統。該系統包括包含許多非球形支承元件的支承床。所述支承元件各自限定至少一個直通通道。包含多個活性元件的床由該支承床支承。支承元件對流動材料的單位重量活性不大于活性元件床中大多數活性元件的單位重量活性的20％。

根據本發明示例實施方式的另一個方面，提供用于處理一種流動材料的系統。該系統包括一個殼體，該殼體在其下端具有底部，并具有供流動材料使用的進口和出口。有一個元件柱在該殼體內供流動材料從中通過。該柱包括元件的支承床。支承床包括緊靠底部的柱的元件。支承床的空隙率至少為50％。元件的活性床由支承床支承，用于處理流動材料。

根據本發明示例實施方式的另一個方面，提供用于處理一種流動材料的系統。該系統包括一個殼體，該殼體在其下端具有底部，并具有進口和出口。進口和出口中的一個比其余的進口和出口更靠近底部。有一個元件柱在該殼體內供流動材料在進口和出口之間通過。該柱包括用于處理流動材料的活性元件的活性床和將活性床支承在其上的支承床。支承床包括多個各自具有至少一個直通通道的元件。支承床包括柱元件中與進口和出口中更靠近底部的那一個最靠近的那些元件。支承床的空隙率至少為45％。

根據本發明示例實施方式的另一個方面，提供形成用于處理一種流動材料的系統的方法。該方法包括在一個柱內放置多個支承元件形成支承床。支承床的空隙率至少為50％。形成一層支承床，該床層定義柱內的最下層元件。活性元件的層負載在支承床上。

附圖簡述

圖1是本發明的處理系統的側視截面圖；

圖2是本發明的第一實施方式的支承元件的頂視圖；

圖3是圖2的支承元件的仰視圖；

圖1足隨意堆積的支承元件的透視圖；

圖5是本發明第二實施方式的支承元件的頂視圖；

圖6是本發明第三實施方式的支承元件的頂視圖；

圖7是本發明第四實施方式的支承元件的頂視圖；

圖8是本發明第五實施方式的支承元件的頂視圖；

圖9是本發明第六實施方式的支承元件的頂視圖；

圖10是對圖2的支承元件床和等效直徑的球形支承元件的床，壓降(厘米水/米床)與氣體質量流速(kg/hr.m²)的理論曲線；

圖11是對圖2的支承元件床和等效直徑的球形支承元件的床，壓降(厘米水/米床)與氣體流速(kg/hr.m²)的實際曲線。

發明詳述