[發明專利]床支承介體

有效

• 申請號: 200680007831.5
• 申請日: 2006-03-09
• 公開（公告）號: CN101137432A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: D·沃納;H·S·尼克納弗斯;D·C·舍曼
• 申請（專利權）人: 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
• 主分類號: B01J8/02
• 分類號: B01J8/02;B01J8/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 朱黎明

1.一種用于處理一種或多種流動材料的系統，該系統包括：

殼體；

位于該殼體內的支承床，支承床包含許多支承元件，支承床的空隙率至少為50％；

位于該殼體內由該支承床支承的活性床；

其中，支承床對一種或多種流動材料具有活性，以重量為基準，小于活性床的活性的20％。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承床包括：

支承元件的第一層；

由第一層支承的支承元件的第二層，在第二層中的支承元件的尺寸小于第一層中的支承元件。

3.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述活性包括催化活性，一種或多種流動材料包括一種或多種反應物材料。

4.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承元件的表觀孔隙率小于3％。

5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承元件的表觀孔隙率小于0.7％。

6.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承元件各自包括具有至少一個直通通道的大致為圓柱形的結構。

7.如權利要求6所述的系統，其特征在于，至少一個直通通道的平均寬度至少為1mm。

8.如權利要求6所述的系統，其特征在于，至少一個直通通道的平均寬度是支承元件的最大寬度的至少10％。

9.如權利要求6所述的系統，其特征在于，所述支承元件包含多個內部橫構件，這些橫構件限定出在它們之間的直通通道。

10.如權利要求9所述的系統，其特征在于，第一內部橫構件與第二內部橫構件交叉。

11.如權利要求6所述的系統，其特征在于，有至少四個直通通道。

12.如權利要求6所述的系統，其特征在于，與直通通道內切的最大圓形體的直徑小于活性床中多個活性元件的直徑。

13.如權利要求12所述的系統，其特征在于，所述最大圓形體的直徑小于3mm。

14.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承元件各自的截面沿其長度方向基本上不變。

15.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承元件在支承床中隨意取向。

16.如權利要求1所述的系統，其特征在于，空隙率至少為55％。

17.如權利要求1所述的系統，其特征在于，空隙率小于80％。

18.如權利要求1所述的系統，其特征在于，空隙率小于75％。

19.如權利要求1所述的系統，其特征在于，活性床包括多個活性元件，支承元件至少構成殼體內的最下層。

20.一種用于處理一種或多種流動材料的系統，該系統包括：

支承床，支承床包含許多非球形支承元件，支承元件各自限定至少一個直通通道；

包含多個活性元件、由該支承床支承的床，支承元件對流動材料的單位重量的活性不大于活性元件床中大多數活性元件的單位重量活性的20％，權利要求20所述的系統，其支承床的空隙率至少為45％。

21.如權利要求20所述的系統，其特征在于，所述空隙率至少為50％。

22.一種用于處理一種流動材料的系統，該系統包括：

殼體，該殼體在其下端具有底部，并具有供流動材料通過的進口和出口；

位于該殼體內的元件柱，流動材料可以從柱中通過，該柱包括：

元件的支承床，該支承床包括緊靠底部的柱的元件；支承床的空隙率至少為50％；

由支承床支承的元件的活性床，用于處理流動材料。

23.如權利要求22所述的系統，其特征在于，活性床中的元件對流動材料的活性大于支承床中各元件的活性。

24.如權利要求22所述的系統，其特征在于，進口位于殼體的下端。

25.如權利要求22所述的系統，其特征在于，出口位于殼體的下端。