[發明專利]溶液流延方法有效
| 申請號： | 200680007482.7 | 申請日： | 2006-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN101137482A | 公開（公告）日： | 2008-03-05 |
| 發明（設計）人： | 樋口次郎;加藤盛孝;鈴木祐次 | 申請（專利權）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | B29C41/50 | 分類號： | B29C41/50;B29C41/24;B29L7/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 張成新 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 溶液 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種溶液流延方法，包括步驟：
從流延模向移動的支撐體流延包含聚合物和溶劑的流延液，以形成流延薄膜；
通過減壓裝置相對所述支撐體的移動方向減壓流延液珠的上游區域，所述流延液珠由從所述流延模到所述支撐體的流延液形成，所述減壓裝置內具有板構件，所述板構件在所述流延液珠的寬度方向上以站立姿勢延伸；
從所述支撐體以薄膜的形式剝離所述流延薄膜；以及
干燥所述薄膜。
2.如權利要求1所述的溶液流延方法，其中，當所述流延液珠到所述支撐體的接觸位置和所述板構件之間的距離被定義為L(mm)時，L滿足20mm≤L(mm)≤100mm。
3.如權利要求1所述的溶液流延方法，其中，在所述板構件中設置開孔，以使所述氣流通過。
4.如權利要求3所述的溶液流延方法，其中，所述開孔在垂直方向上形成在所述板構件的上半部分中。
5.如權利要求4所述的溶液流延方法，其中，所述開孔與所述板構件的面積比在0.5％到30％的范圍內。
6.如權利要求1所述的溶液流延方法，其中，所述減壓室與所述支撐體之間的間隙CL(mm)在0.05mm到3.0mm的范圍內。
7.如權利要求1所述的溶液流延方法，其中，所述減壓室內的壓力被設置在(大氣壓力-2000)Pa到(大氣壓力-10)Pa的范圍內。
8.如權利要求1所述的溶液流延方法，其中，所述支撐體的移動速度在30m/min到150m/min的范圍內。
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