[發明專利]溶液流延方法

有效

• 申請號: 200680007482.7
• 申請日: 2006-03-02
• 公開（公告）號: CN101137482A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 樋口次郎;加藤盛孝;鈴木祐次
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B29C41/50
• 分類號: B29C41/50;B29C41/24;B29L7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 張成新

技術領域

本發明涉及一種制造薄膜的方法，更詳而言之，本發明涉及一種制造用作偏振過濾器的保護膜和LCD裝置中的光學補償膜或者照相支撐膜的薄膜的方法。

背景技術

酰化纖維素膜，特別是由平均乙?；葟?7.5％到62.5％的TAC制造的三醋酸纖維素(TAC)膜，由于它的韌性和抗火特性被用作用于照相感光材料的照相支撐膜。進一步，由于它出色的光學各向同性，TAC膜被用作偏振過濾器的保護膜、光學補償膜，例如，用于目前市場正在擴大的LCD裝置中的寬視角薄膜或者類似薄膜。

通常，TAC膜通過溶液流延的方法制造。溶液流延的方法與其他的諸如熔體擠出方法的薄膜制造方法相比，能夠使得薄膜具有更卓越的物理特性，例如光學特性。在溶液流延方法中，制備高聚合物溶液(后面被稱為流延液dope)，在該高聚合物溶液中，聚合物溶解在包含二氯甲烷或醋酸甲酯作為主要溶劑的混合溶劑中。流延液從流延模流延到支撐體上，以形成流延薄膜。在支撐體上獲得自支撐特性，流延薄膜從支撐體上以濕薄膜的形式剝離，也就是說，該薄膜包含溶劑。濕薄膜被干燥且被卷繞成薄膜(例如，見發明創新日本研究院的技術公開No.2001-001745)。

隨著薄膜制造速度的提高，在流延液珠附近產生的氣流成為一個嚴重的問題。流延液珠是從流延模到支撐體的流延液。隨著支撐體的移動，氣流在流延薄膜和流延液珠附近產生。當流延液珠暴露于這種氣流時，流延液珠的厚度變得不均勻，這樣使得做為產品的薄膜的厚度不均勻。進一步，當氣流被吹到流延液珠上并且混合到流延液珠內時，通過混合空氣形成的氣孔在后面的過程中會在薄膜中破裂，而使薄膜的表面狀況變壞。薄膜表面狀況的變壞是指薄膜表面由于形成在薄膜表面上的突起和凹陷變得不均勻。為解決上面的問題，與支撐體接觸的流延液珠表面的上游區域的壓力，即相對支撐體移動方向的流延液珠的上游側的壓力，被減小為低于流延液珠下游側的壓力。為此，減壓室被設置在流延模中。

近來，做了很多嘗試以進一步提高支撐體的移動速度，以進一步提高薄膜的制造速度。盡管如此，由于隨著支撐體移動速度的增加引起了氣流量的增加，在支撐體移動方向和寬度方向上的薄膜厚度的不均勻更有可能發生。為了防止氣流對流延液珠的的影響，需要提高在流延液珠上游區域的減壓程度，也就是，降低絕對壓力。但是，由于提高減壓程度存在限制，氣流的影響不可能完全消除。因此，還沒有有效的方法以防止流延液珠受到氣流的影響，并且設計防止薄膜厚度不均勻的裝置是非常困難的。此外，隨著氣流量的增加，氣流更有可能進入流延液珠和支撐體之間，使得薄膜厚度不均勻且使得薄膜的表面變壞。

近來，TAC薄膜被用作光學功能膜的基膜。在這種情況下，要求比傳統的例如厚度為80μm薄膜更薄的例如40μm厚度的薄膜。在制造更薄的薄膜時，更要求薄膜厚度的一致性。因此，與傳統的方法相比，均勻地形成流延液珠變得更加必要。

發明內容

本發明的目的是提供一種液體流延方法，其能夠通過防止氣流產生來制造不存在薄膜厚度不均勻的薄膜。

由于發明人進行了細致的研究，薄膜厚度不均勻的原因如下：(1)氣流通過從周圍吸收空氣的減壓室而產生，且產生的氣流吹到流延液珠上；以及(2)氣流吹倒流延液珠上。另外，發明人發現氣流進入支撐體和流延液珠之間，導致薄膜厚度的不均勻。氣流的產生源自于：(3)由于在減壓室產生的空氣渦流導致的流延液珠與支撐體的接觸位置的變化；以及(4)隨著流延液的固體濃度的增加，流延液珠的拉伸應力增加。注意(3)描述的是被稱為活動接觸位置的波動。(4)是基于最近的趨勢，即流延液的固體濃度可能增加，以提高干燥過程中的干燥效果和干燥效率。

根據本發明的液體流延方法，包換聚合物和溶劑的流延液從流延模流延到移動的支撐體上，以形成流延薄膜。該流延薄膜作為薄膜被剝離，然后被干燥。從流延模到支撐體的流延液被稱為流延液珠。減壓裝置相對支撐體移動的方向減壓流延液珠的上游區域。在減壓室內，在流延液珠的寬度方向上延伸的板構件以站立的姿式設置。板構件和流延液珠與支撐體相接觸的接觸位置之間的距離L(mm)優選地滿足20mm≤L(mm)≤100mm。

開孔優選設置在板構件上，以使氣流通過。多個開孔優選在垂直方向上在板構件的上半部分中形成。開孔的面積與板構件的面積的面積比優選為0.5％到30％的范圍內。

減壓室和支撐體之間的間隙CL(mm)為0.05mm到3.0mm的范圍內。減壓裝置內的壓力優選在(大氣壓力—2000)Pa到(大氣壓力-10)Pa的范圍內。此外，支撐體的移動速度在30m/min到150m/min的范圍內。