[發(fā)明專利]手術(shù)支援裝置和處理支援裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680006669.5 | 申請(qǐng)日: | 2006-02-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101132744A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小野田文幸;丹羽寬;佐藤稔;織田朋彥;三好義孝;三宅憲輔;相沢千惠子 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奧林巴斯醫(yī)療株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | A61B19/00 | 分類號(hào): | A61B19/00;A61B1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 手術(shù) 支援 裝置 處理 | ||
1.一種手術(shù)支援裝置,其特征在于,該手術(shù)支援裝置具有:
探頭,其在被插入被檢體的體內(nèi)的插入部的內(nèi)部,配置有多個(gè)如下兩方元件中的一方元件,即磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和磁場(chǎng)檢測(cè)元件;
處理器具,其在對(duì)上述被檢體的對(duì)象部位實(shí)施處理的處理部的附近,配置有1個(gè)或多個(gè)上述一方元件;以及
檢測(cè)單元,其在上述被檢體的外部配置有上述磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和上述磁場(chǎng)檢測(cè)元件中的另一方元件,以上述另一方元件的位置為基準(zhǔn),檢測(cè)配置在上述探頭中的上述一方元件以及配置在上述處理器具中的上述一方元件各自的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
所述處理器具配置有多個(gè)所述一方元件;
所述檢測(cè)單元根據(jù)配置在所述處理器具中的多個(gè)所述一方元件的各位置,檢測(cè)所述處理器具向所述對(duì)象部位的接近方向。
3.如權(quán)利要求1或2所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
所述檢測(cè)單元根據(jù)檢測(cè)結(jié)果,計(jì)算所述處理器具的所述處理部與所述探頭之間的最短距離。
4.如權(quán)利要求3所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
所述檢測(cè)單元在所述最短距離小于規(guī)定距離的情況下,進(jìn)行警告。
5.如權(quán)利要求4所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
所述處理器具是從所述處理部對(duì)所述被檢體的對(duì)象部位施加能量,來(lái)實(shí)施處理的能量處理器具,
所述檢測(cè)單元在所述最短距離小于規(guī)定極限距離的情況下,使所述能量處理器具停止所述能量的施加。
6.如權(quán)利要求3至5中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
將由所述檢測(cè)單元計(jì)算出的最短距離顯示在顯示單元上。
7.如權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
該手術(shù)支援裝置具有內(nèi)窺鏡裝置,該內(nèi)窺鏡裝置對(duì)所述被檢體的對(duì)象部位進(jìn)行攝像,
所述檢測(cè)單元生成基于來(lái)自所述內(nèi)窺鏡裝置的所述對(duì)象部位的內(nèi)窺鏡圖像的所述探頭的形狀圖像和所述處理器具的前端圖像。
8.如權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,所述探頭由引導(dǎo)線構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,所述探頭由探針構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,所述探頭由內(nèi)窺鏡構(gòu)成。
11.如權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,該手術(shù)支援裝置具有:
形狀圖像生成單元,其根據(jù)由所述檢測(cè)單元得到的各元件的位置,生成所述探頭的形狀圖像、以及所述處理部的前端部位置信息和形狀圖像;以及
顯示單元,其將所述形狀圖像生成單元生成的圖像顯示在同一畫(huà)面上。
12.如權(quán)利要求10所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
將多個(gè)所述處理器具的前端部位置信息和形狀圖像顯示在所述顯示單元上。
13.一種手術(shù)支援裝置,其特征在于,
該手術(shù)支援裝置具有:
探頭,其在被插入被檢體的體內(nèi)的插入部的內(nèi)部,配置有多個(gè)如下兩方元件中的一方元件,即磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和磁場(chǎng)檢測(cè)元件;
標(biāo)識(shí)單元,其內(nèi)置有所述磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和磁場(chǎng)檢測(cè)元件中的一方,具有用于安裝到處理器具的安裝部;以及
檢測(cè)單元,其在所述被檢體的外部配置有所述磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和所述磁場(chǎng)檢測(cè)元件中的另一方元件,以所述另一方元件的位置為基準(zhǔn),檢測(cè)配置在所述探頭中的所述一方元件以及配置在所述標(biāo)識(shí)單元中的所述一方元件各自的位置。
14.如權(quán)利要求1所述的手術(shù)支援裝置,其特征在于,
根據(jù)由所述檢測(cè)單元檢測(cè)出的位置信息,將所述探頭的形狀和所述處理部的前端部顯示在顯示單元上。
15.一種處理支援裝置,其特征在于,
該處理支援裝置具有:
處理器具,其在對(duì)被檢體的對(duì)象部位實(shí)施處理的處理部的附近,配置有磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和磁場(chǎng)檢測(cè)元件中的一方元件;
以及檢測(cè)單元,其在上述被檢體的外部配置有上述磁場(chǎng)產(chǎn)生元件和上述磁場(chǎng)檢測(cè)元件中的另一方元件,以上述另一方元件的位置為基準(zhǔn),檢測(cè)配置在上述處理器具中的上述一方元件的位置。
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