[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件鍵合裝置以及使用該裝置鍵合半導(dǎo)體器件的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680006043.4 | 申請(qǐng)日: | 2006-06-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101128914A | 公開(公告)日: | 2008-02-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 內(nèi)藤浩幸;仕田智;上野康晴;森川誠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00;B23K20/10 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 裝置 以及 使用 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件鍵合裝置以及使用該半導(dǎo)體器件鍵合裝置鍵合半導(dǎo)體器件的方法,其中所述半導(dǎo)體器件鍵合裝置重復(fù)進(jìn)行鍵合半導(dǎo)體器件和襯底的操作。
背景技術(shù)
作為將半導(dǎo)體器件鍵合到襯底上的裝置,公知一種用于在將凸起設(shè)置在半導(dǎo)體器件和襯底之間的狀態(tài)下,鍵合半導(dǎo)體器件和襯底同時(shí)利用超聲波振動(dòng)使其相對(duì)振動(dòng)的半導(dǎo)體器件鍵合裝置。
如果通過使用常規(guī)的半導(dǎo)體器件鍵合裝置重復(fù)進(jìn)行鍵合操作,則鍵合強(qiáng)度(例如,剪切強(qiáng)度)例如由于半導(dǎo)體器件的保持部件的污染或者其上安裝襯底的平臺(tái)的污染而降低。為了解決上述問題,在JP?2002-313837A中建議了一種包括判斷裝置的半導(dǎo)體器件鍵合裝置,所述判斷裝置通過檢測(cè)在半導(dǎo)體器件和襯底之間的相對(duì)振動(dòng)的變化來判斷是否存在保持部件的污染。
然而,在保持部件的污染存在與否和剪切強(qiáng)度之間不存在特定的相互關(guān)系,并且由此在JP?2002-313837A中所建議的半導(dǎo)體器件鍵合裝置不足以使剪切強(qiáng)度保持在預(yù)定值或以上。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體器件鍵合裝置以及使用該半導(dǎo)體器件鍵合裝置鍵合半導(dǎo)體器件的方法,所述半導(dǎo)體器件鍵合裝置可以使剪切強(qiáng)度保持在預(yù)定值或以上。
本發(fā)明的半導(dǎo)體器件鍵合裝置是一種重復(fù)進(jìn)行鍵合半導(dǎo)體器件和襯底操作的半導(dǎo)體器件鍵合裝置,該半導(dǎo)體器件鍵合裝置包括:施壓部件,在將凸起設(shè)置在半導(dǎo)體器件和襯底之間的狀態(tài)下,將半導(dǎo)體器件壓向襯底一側(cè);超聲波振動(dòng)施加部件,通過將超聲波振動(dòng)施加到半導(dǎo)體器件和襯底中的至少一個(gè),使半導(dǎo)體器件和襯底相對(duì)振動(dòng);時(shí)間測(cè)量部件,測(cè)量從開始施加超聲波振動(dòng)時(shí)的時(shí)間到按壓半導(dǎo)體器件達(dá)預(yù)定距離時(shí)的時(shí)間所需的時(shí)間段;以及控制部件,基于由時(shí)間測(cè)量部件測(cè)量到的時(shí)間段,在隨后的鍵合過程中控制超聲波振動(dòng)的輸出。
本發(fā)明的半導(dǎo)體器件的鍵合方法是一種重復(fù)進(jìn)行鍵合半導(dǎo)體器件和襯底操作的半導(dǎo)體器件的鍵合方法,該方法包括:在將凸起設(shè)置在半導(dǎo)體器件和襯底之間的狀態(tài)下,通過將超聲波振動(dòng)施加到半導(dǎo)體器件和襯底中的至少一個(gè)來使半導(dǎo)體器件和襯底相對(duì)振動(dòng),同時(shí)將半導(dǎo)體器件壓向襯底一側(cè);測(cè)量從開始施加超聲波振動(dòng)時(shí)的時(shí)間到按壓半導(dǎo)體器件達(dá)預(yù)定距離時(shí)的時(shí)間所需的時(shí)間段;以及基于所測(cè)量到的時(shí)間段,在隨后的鍵合過程中控制超聲波振動(dòng)的輸出。
附圖說明
圖1是示出在鍵合過程中凸起的高度隨時(shí)間變化的曲線圖;
圖2是示出按壓速度與剪切強(qiáng)度之間的關(guān)系的曲線圖;
圖3是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體器件鍵合裝置結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖4是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體器件的鍵合方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明的半導(dǎo)體器件鍵合裝置用作重復(fù)進(jìn)行鍵合半導(dǎo)體器件和襯底操作的半導(dǎo)體器件鍵合裝置。對(duì)半導(dǎo)體器件沒有特別的限制,并且例如可以使用通過切割半導(dǎo)體晶片等獲得的半導(dǎo)體芯片(所謂的裸芯片)。
而且,本發(fā)明的半導(dǎo)體器件鍵合裝置包括:施壓部件,在將凸起設(shè)置在半導(dǎo)體器件和襯底之間的狀態(tài)下,將半導(dǎo)體器件壓向襯底一側(cè);以及超聲波振動(dòng)施加部件,通過將超聲波振動(dòng)施加到半導(dǎo)體器件和襯底中的至少一個(gè)使半導(dǎo)體器件和襯底相對(duì)振動(dòng)。
例如,在鍵合之前,預(yù)先將凸起設(shè)置在形成在半導(dǎo)體器件中的電極上或者設(shè)置在形成在襯底上的電極上。對(duì)凸起的形狀沒有特別的限制,只要凸起在鍵合之前的高度例如在大約20μm到大約30μm的范圍內(nèi),凸起在鍵合之前的體積例如在大約7×104μm3到大約10×104μm3的范圍內(nèi),并且凸起在鍵合之前的鍵合部分的面積例如在大約3×103μm2到大約5×103μm2的范圍內(nèi)即可。此外,對(duì)凸起的材料也沒有特別的限制,并且例如可以使用諸如金的金屬材料。
對(duì)施壓部件沒有特別的限制,并且例如可以使用諸如音圈電機(jī)(以下簡(jiǎn)稱為“VCM”)等動(dòng)力。為按壓半導(dǎo)體器件而由施壓部件施加的負(fù)載例如在每一凸起大約500mN到大約1000mN的范圍內(nèi)。在以下說明中,為按壓半導(dǎo)體器件施加的負(fù)載值表示每一凸起的負(fù)載值。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
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