[發明專利]透光性物品的檢查方法

有效

• 申請號: 200680005281.3
• 申請日: 2006-02-15
• 公開（公告）號: CN101120245A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發明（設計）人: 田邊勝
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G01N21/958
• 分類號: G01N21/958;G03F1/08;C03B20/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

1.一種透光性物品的檢查方法，其使用于光平版印刷，檢查在由透光 性材料構成的透光性物品的內部，有無相對于曝光光光學特性部分或局部 變化的不均勻性，其特征在于，

向所述透光性物品導入具有200nm以下的波長的檢查光，在所述檢查 光在該透光性物品內部傳播的光路中，通過檢測部分或局部產生的比所述 檢查光的波長長的光，來檢查所述透光性物品中的光學不均勻性的有無，

所述透光性物品中的光學不均勻性是透光性物品的內部缺陷，

所述內部缺陷通過導入所述檢查光而發出波長比所述檢查光長的光。

2.根據權利要求1所述的透光性物品的檢查方法，其特征在于，

對于比所述檢查光的波長長的光而言，該光的波長大于200nm且在 600nm以下。

3.根據權利要求1所述的透光性物品的檢查方法，其特征在于，

所述透光性物品是光平版印刷時使用的曝光裝置的光學部件或光平 版印刷時使用的曝光用掩模的基板中的任意一種。

4.根據權利要求3所述的透光性物品的檢查方法，其特征在于，

所述光學部件、所述曝光用掩模的基板由合成石英玻璃構成。

5.根據權利要求1所述的透光性物品的檢查方法，其特征在于，

向所述透光性物品導入所述檢查光時，在將因該檢查光的導入而使所 述透光性物品的表面產生損傷的原因物質從該透光性物品周邊的氣氛中 排除的狀態下，向該透光性物品導入所述檢查光。

6.根據權利要求1所述的透光性物品的檢查方法，其特征在于，

所述檢查光的每單位面積的能量為每1次脈沖10mJ/cm2以上 50mJ/cm2以下。

7.一種掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特征在于，

具有：

準備工序，其準備具有導入檢查光的表面的掩模坯料用透光性基板， 所述檢查光具有200nm以下的波長；

檢查工序，其從所述表面的一方導入所述檢查光，在所述檢查光在所 述透光性基板內部傳播的光路中，通過檢測部分或局部產生的比所述波長 長的光，來檢查所述透光性基板中的光學不均勻性的有無；

判別工序，其根據所述不均勻性的有無，判斷是否為不產生因光學特 性部分或局部變化而引起的復制圖案缺陷的透光性基板，

所述透光性基板中的光學不均勻性是透光性基板的內部缺陷，

所述內部缺陷通過導入所述檢查光而發出波長比所述檢查光長的光。

8.根據權利要求7所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特 征在于，

對于比所述檢查光的波長長的光而言，該光的波長大于200nm且在 600nm以下。

9.根據權利要求7所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特 征在于，

在所述判別工序之后，將所述透光性基板的主表面精密研磨，得到掩 模坯料用透光性基板。

10.根據權利要求7所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特 征在于，

向所述透光性基板導入所述檢查光時，在將因該檢查光的導入而使所 述透光性基板的表面產生損傷的原因物質從該玻璃基板周邊的氣氛中消 除的狀態下，向該透光性基板導入所述檢查光。

11.根據權利要求7所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特 征在于，

導入所述檢查光的所述表面是與形成作為掩模圖案的薄膜的透光性 基板的主表面正交的側面。

12.根據權利要求11所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其 特征在于，

在所述檢查工序中，將具有比所述側面的寬度大的束形狀的檢查光導 入該表面。

13.根據權利要求7所述的掩模坯料用透光性基板的制造方法，其特 征在于，

所述檢查光的每單位面積的能量為每1次脈沖10mJ/cm2以上 50mJ/cm2以下。