[發(fā)明專利]透明平面體和透明接觸開關(guān)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680004693.5
• 申請(qǐng)日: 2006-05-24
• 公開（公告）號(hào): CN101120304A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 若林尚宏;山田勉;佐佐木邦晃;古川修二;塚本啟司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 郡是株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;G06F3/044;H01B5/14
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 梁曉廣;陸錦華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及透明平面體和透明接觸開關(guān)。

背景技術(shù)

已經(jīng)有人提出用于可檢測(cè)輸入位置的透明接觸開關(guān)的多種結(jié)構(gòu)，例如透明靜電電容式接觸開關(guān)。例如，專利文獻(xiàn)1公開了透明接觸開關(guān)，其包括位于一對(duì)透明平面體之間的介質(zhì)層，所述透明平面體每個(gè)配備有圖案化成預(yù)定形狀的透明導(dǎo)電膜。當(dāng)操作員用手指等接觸操作表面時(shí)，所述透明接觸開關(guān)通過感知經(jīng)人體接地產(chǎn)生的電容變化來檢測(cè)接觸位置。

這種透明接觸開關(guān)安裝在液晶顯示裝置、CRT等的表面上。在這種結(jié)構(gòu)中，在所述透明平面體中形成的透明導(dǎo)電膜的圖案形狀變得明顯，這降低了所述接觸開關(guān)的視認(rèn)性。

在專利文獻(xiàn)2中公開的透明導(dǎo)電膜是已知透明平面體的一個(gè)實(shí)例。該透明導(dǎo)電膜包括位于導(dǎo)電層形成薄膜和導(dǎo)電層之間的底襯層。所述底襯層由具有不同折射率的兩層形成。具體地說，將具有600厚度的高折射率的氧化鋅/氧化錫薄膜布置在接近于所述導(dǎo)電層形成薄膜，和將具有450厚度的低折射率的氧化硅薄膜布置接近于所述導(dǎo)電層。

當(dāng)這種透明導(dǎo)電膜被用作透明靜電電容式接觸開關(guān)時(shí)，所述導(dǎo)電層的圖案形狀同樣變得明顯，并且因此在這方面有改進(jìn)的余地。

專利文獻(xiàn)1：日本未審專利公開No.2003-173238(圖1和5)

專利文獻(xiàn)2：日本未審專利公開No.2003-197035(表1)

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題

本發(fā)明的目的是提供具有改進(jìn)的視認(rèn)性的透明平面體和透明接觸開關(guān)。

解決所述問題的方法

本發(fā)明的所述目的可通過如下方式完成：包括透明基板的透明平面體；在所述透明基板的至少一個(gè)表面上形成的圖案化的透明導(dǎo)電膜；和透光率調(diào)整層，其用于使經(jīng)由所述透明基板、透過其中提供了透明導(dǎo)電膜的圖案化區(qū)域的光的透射光譜與透過其中未提供透明導(dǎo)電膜的非圖案化區(qū)域的光的透射光譜相同。

優(yōu)選在所述透明平面體中，所述透光率調(diào)整層配備有具有基本上均一厚度的覆蓋所述透明基板的一個(gè)表面的外涂層，并且該外涂層比所述透明導(dǎo)電膜更厚并具有比所述透明導(dǎo)電膜更低的折射率。

優(yōu)選所述外涂層由硅錫氧化物形成。

還優(yōu)選所述外涂層具有70到80nm的厚度。

優(yōu)選在所述透明導(dǎo)電膜和所述外涂層之間的折射率差值是0.03到0.4。

當(dāng)?shù)滓r層位于所述透明基板和所述透明導(dǎo)電膜之間時(shí)，獲得優(yōu)選的結(jié)構(gòu)，其中所述底襯層由包括具有不同光折射率的至少兩層的層壓體形成，并且所述透明導(dǎo)電膜在低折射率層側(cè)上形成。

本發(fā)明的所述目的可用透明接觸開關(guān)完成，所述透明接觸開關(guān)包括多個(gè)透明平面體，其中所述多個(gè)透明平面體通過粘合劑層彼此附著，并起到透明靜電電容式接觸開關(guān)的作用，并且所述粘合劑層的折射率低于所述透明導(dǎo)電膜的折射率。

在這個(gè)透明接觸開關(guān)中，優(yōu)選在其前側(cè)提供線性起偏振片。

還優(yōu)選所述透明接觸開關(guān)包括在前側(cè)的線性起偏振片和四分之一波長(zhǎng)板以及在后側(cè)的四分之一波長(zhǎng)板。

還優(yōu)選所述透明基板是四分之一波長(zhǎng)板。

優(yōu)選在所述透明平面體中，所述透光率調(diào)整層配備有底襯層，該底襯層由包括低折射率層和高折射率層的層壓體形成，所述高折射率層的光折射率高于所述低折射率層的光折射率，其中所述底襯層以如下方式位于所述透明基板和所述透明導(dǎo)電膜之間，所述方式為將所述透明導(dǎo)電膜形成在所述低折射率層側(cè)，并且所述高折射率層比所述低折射率層薄。

優(yōu)選所述高折射率層具有10到25nm的厚度，所述低折射率層具有25到45nm的厚度。

優(yōu)選所述高折射率層由硅錫氧化物形成，所述低折射率層由氧化硅形成。

還優(yōu)選所述透明導(dǎo)電膜具有10到25nm的厚度。

本發(fā)明的所述目的可通過透明靜電電容式接觸開關(guān)完成，所述透明靜電電容式接觸開關(guān)包括多個(gè)通過粘合劑層彼此附著的透明平面體。

本發(fā)明的所述目的還可通過下述透明靜電電容式接觸開關(guān)完成，所述透明靜電電容式接觸開關(guān)包括多個(gè)透明平面體，其中所述多個(gè)透明平面體的每個(gè)以如下方式布置，所述方式為將它們的透明導(dǎo)電膜彼此相對(duì)，并且將所述多個(gè)透明平面體彼此附著，其間具有粘合劑層。所述透明導(dǎo)電膜的厚度是20到25nm，所述粘合劑層的折射率為不小于1.6。