[發明專利]透明平面體和透明接觸開關

有效

• 申請號: 200680004693.5
• 申請日: 2006-05-24
• 公開（公告）號: CN101120304A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發明（設計）人: 若林尚宏;山田勉;佐佐木邦晃;古川修二;塚本啟司
• 申請（專利權）人: 郡是株式會社
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044;H01B5/14
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 梁曉廣;陸錦華

1.一種透明平面體，其包括：

透明基板；

圖案化的透明導電膜，其在所述透明基板的至少一個表面上提供；和

透光率調整層，其用于使經由所述透明基板、透過其中提供了透明導電膜的圖案化區域的光的透射光譜與透過其中未提供透明導電膜的非圖案化區域的光的透射光譜相同，

其中所述透光率調整層包括具有均一厚度的覆蓋所述透明基板的一個表面的外涂層，

該外涂層比所述透明導電膜更厚并具有更低的折射率，

所述外涂層由硅錫氧化物形成，

所述外涂層具有70到80nm的厚度。

2.根據權利要求1的透明平面體，其中在所述透明導電膜和所述外涂層之間的折射率差值在0.03到0.4的范圍內。

3.根據權利要求1的透明平面體，其中底襯層位于所述透明基板和所述透明導電膜之間，

所述底襯層具有層狀結構，該層狀結構包括具有不同光折射率的至少兩層，和

所述透明導電膜在低折射率層側形成。

4.一種包括如權利要求1的多個透明平面體的透明接觸開關，

所述透明平面體通過粘合劑層彼此附著，并起到透明靜電電容式接觸開關的作用，和

所述粘合劑層具有比所述透明導電膜更低的折射率。

5.根據權利要求4的透明接觸開關，其還包括在前側的線性起偏振片。

6.根據權利要求4的透明接觸開關，其還包括在前側的線性起偏振片和四分之一波長板以及在背側的四分之一波長板。

7.根據權利要求5的透明接觸開關，其中所述透明基板是四分之一波長板。

8.一種透明平面體，其包括：

透明基板；

圖案化的透明導電膜，其在所述透明基板的至少一個表面上提供；和

透光率調整層，其用于使經由所述透明基板、透過其中提供了透明導電膜的圖案化區域的光的透射光譜與透過其中未提供透明導電膜的非圖案化區域的光的透射光譜相同，

所述透光率調整層配備有由層壓體形成的底襯層，所述層壓體包括低折射率層和高折射率層，其中所述高折射率層的光折射率比所述低折射率層的光折射率更高，

所述底襯層以如下方式位于所述透明基板和所述透明導電膜之間，即，使所述透明導電膜布置在所述低折射率層側，和

所述高折射率層比所述低折射率層更薄，

所述高折射率層的厚度在10到25nm的范圍內，所述低折射率層的厚度在25到45nm的范圍內。

9.根據權利要求8的透明平面體，其中所述高折射率層由硅錫氧化物形成，所述低折射率層由氧化硅形成。

10.根據權利要求8的透明平面體，其中所述透明導電膜的厚度在10到25nm的范圍內。

11.一種包括如權利要求8的多個透明平面體的透明靜電電容式接觸開關，

所述多個透明平面體通過粘合劑層彼此附著。

12.一種包括根據權利要求8的多個透明平面體的透明靜電電容式接觸開關，

所述多個透明平面體通過粘合劑層以如下方式彼此附著，即，使所述透明導電膜彼此相對，

所述透明導電膜的厚度是20到25nm，和

所述粘合劑層的折射率不小于1.6。

13.一種包括根據權利要求8的多個透明平面體的透明靜電電容式接觸開關，

所述多個透明平面體通過粘合劑層以如下方式彼此附著，即，使所述透明導電膜彼此相對，

所述透明導電膜的厚度是25到30nm，和

所述粘合劑層的折射率不小于1.7。

14.根據權利要求11到13的任一項的透明接觸開關，其還包括在前側的線性起偏振片。

15.根據權利要求11到13的任一項的透明接觸開關，其還包括在前側的線性起偏振片和四分之一波長板以及在后側的四分之一波長板。

16.根據權利要求14的透明接觸開關，其中所述透明基板是四分之一波長板。