[發明專利]包括衍射浮雕結構的多層體及其制備方法

有效

• 申請號: 200680004626.3
• 申請日: 2006-02-09
• 公開（公告）號: CN101115627A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發明（設計）人: R·施陶布;W·R·湯普金;A·席林
• 申請（專利權）人: OVD基尼格拉姆股份公司
• 主分類號: B42D15/10
• 分類號: B42D15/10;B44C1/14
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 龍傳紅

本發明涉及具有復制層(replication?layer)和至少一個設置在該復制層上與第一浮雕結構成對齊(inregister)關系的部分成形的第一層的多層體，和所述多層體的制備方法。

此類元件適合用作遠程通訊領域中的光學元件或還用作透鏡系統。

GB?2?136?352?A描述了制備配備有全息圖作為安全特性的密封薄膜的制備方法。在那種情況下，在衍射浮雕結構的壓印操作之后，在塑料薄膜的整個面積上鍍金屬，然后按區域(region-wise)方式以與經壓印的衍射浮雕結構精確對齊的關系脫金屬。

以精確對齊的關系脫金屬是昂貴的并且可能獲得的分辨率受到調節容限和所使用的程序限制。

EP?0?537?439?B2描述了具有細絲(filigree)圖案的安全性構件的制備方法。該圖案由衍射性結構形成，所述結構覆蓋有金屬層并且被其中除去了金屬層的透明區域圍繞。要求將細絲圖案的輪廓以凹部(depression)形式引入金屬涂覆的載體中，在那種情況下，同時為該凹部的底部提供衍射性結構然后用保護性漆填充該凹部。通過刮刀除去過量的保護性漆。在涂覆保護性漆之后，要求在無保護的透明區域通過蝕刻除去金屬層。凹部為大約1μm-5μm，而衍射性結構可以有大于1μm的高度差。在重復步驟中，需要調節步驟用于以精確對齊的關系取向的方法當處理更精細結構時失敗。另外，對于刮除保護性漆的操作來說，隨著“間隔物”消失，難以實現覆蓋面積的連續金屬區域。

本發明的目的是提供多層體和多層體的制備方法，其中可以在高精確水平下廉價地以對齊關系施加層，該層具有其中該層不存在的區域。

根據本發明，該目的由具有部分成形的第一層的多層體的制備方法達到，其中要求在該多層體的復制層的第一區域中成形衍射性第一浮雕結構，在該第一區域中和其中在復制層中沒有成形浮雕結構的第二區域中將第一層施加到復制層上，由復制層限定的平面具有恒定的表面密度，將光敏層施加到第一層上或將光敏性洗滌掩模作為復制層施加到其上，透過第一層將該光敏層或洗滌掩模曝光以致由于第一和第二區域中的第一浮雕結構而引起該光敏層或洗滌掩模被不同地曝光，和在第一區域而不是第二區域中或在第二區域而不是第一區域中使用曝光的光敏層或洗滌掩模作為掩模層將第一層除去。

所述目的進一步由具有復制層和至少一個設置在該復制層上的部分成形的第一層的多層體達到，其中要求在復制層的第一區域中成形衍射性第一浮雕結構，在復制層的第二區域中的復制層中不成形第一浮雕結構，和以由第一浮雕結構的設置確定的方式將第一層部分地除去，以致在第一區域而不是第二區域中或在第二區域而不是第一區域中以與第一浮雕結構精確對齊的關系將第一層除去。

該目的進一步由具有部分成形的第二層的多層體的制備方法達到，其中要求在該多層體的復制層的第一區域中成形衍射性第一浮雕結構，在該第一區域中和其中在復制層中沒有成形浮雕結構的第二區域中將第一層施加到復制層上，由復制層限定的平面具有恒定的表面密度，透過第一層將光敏層或光敏性洗滌掩模曝光以致由于第一和第二區域中的第一浮雕結構而引起該光敏層或洗滌掩模被不同地曝光，和在第一區域而不是第二區域中或在第二區域而不是第一區域中使用曝光的光敏層或洗滌掩模作為掩模層將第二層除去。

使用根據本發明的多層體作為用于制備其它具有部分成形的其它層的多層體的曝光掩模是理想的。在這方面要求曝光掩模具有復制層，在復制層的第一區域中成形衍射性第一浮雕結構，在復制層的第二區域中的復制層中不成形第一浮雕結構，在該第一區域中和其中在復制層中沒有成形第一浮雕結構的第二區域中將第一層施加到復制層上，以致透過第一層曝光的光敏層或光敏性洗滌掩模由于第一浮雕結構在第一和第二區域中被不同地曝光。