[發(fā)明專利]采用熱噴涂生產(chǎn)基于硅與鋯的靶的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680004356.6
• 申請(qǐng)日: 2006-02-03
• 公開（公告）號(hào): CN101115861A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: N·納多德;D·比利爾斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 法國(guó)圣戈班玻璃廠
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C14/06
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉維升;林森

1.采用熱噴涂，特別地采用等離子體法生產(chǎn)靶的方法，所述的靶 含有至少一種基于不同性質(zhì)原子的化合物，該原子特別選自屬于族(Zr、 Mo、Ti、Nb、Ta、Hf、Cr)的組分M和硅，其特征在于注入至少一部分 所述的化合物，其中這些組分在等離子體推進(jìn)器中是由共價(jià)鍵和/或離子 鍵和/或金屬鍵連接的，所述的等離子體推進(jìn)器將所述化合物的這些組分 噴射到該靶上，以便達(dá)到在所述靶的一部分表面上沉積所述化合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于另一部分所述的化合 物以粉末混合物形式注入。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在 于根據(jù)它們的各自密度調(diào)節(jié)構(gòu)成該混合物的每種粉末的粒度，以便它們 的各自平均質(zhì)量應(yīng)盡可能接近。

4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 在充滿中性氣氛的室中進(jìn)行噴射化合物。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于在已真空凈化的室中， 再充滿中性氣體直到壓力可以達(dá)到50-1000毫巴，進(jìn)行噴射化合物。

6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 在靶與等離子體之間進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 在沉積所述化合物之前進(jìn)行靶表面處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于這種表面處理包括清 洗該靶的這部分表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于這種表面處理包括在 該靶的這部分表面沉積連接材料層。

10.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 等離子體噴射所述化合物時(shí)，該靶的這部分表面進(jìn)行熱調(diào)節(jié)。

11.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 注入至少一種所述金屬M(fèi)的硅化物。

12.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其特征在于 使用幾個(gè)注入通道，其中根據(jù)每個(gè)通道中的注入材料，獨(dú)立地調(diào)節(jié)注入 參數(shù)。

13.陰極濺射設(shè)備的靶，特別地磁場(chǎng)增強(qiáng)的陰極濺射設(shè)備的靶，所 述靶主要含有根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法得到的 硅，其特征在于它是Si_xAl_yM類組成，M是選自(Zr、Mo、Ti、Nb、Ta、 Hf、Cr)的金屬。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的靶，其特征在于該靶含有所述金屬硅 化物類的化合物。

15.根據(jù)權(quán)利要求13或14中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的靶，其特征在 于它是平面或管狀幾何形狀。

16.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的靶，其特征在于 它是基于用銅或銅合金制成的載體材料的。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的靶，其特征在于該靶涂敷基于銅合金 的連接層。

18.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的靶，其特征在于 它是基于用不銹鋼制成的載體材料的。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的靶，其特征在于該靶涂敷基于鎳合金 的連接層。

20.能夠生產(chǎn)權(quán)利要求13-19中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述靶的含有下面 限定的以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示的組分的化合物的組合物，其特征在于它含 有：

-Al：2-20％

-Si：25-45％

-ZrSi₂：45-70％。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的組合物，其特征在于它是由各自粒度 如下的粉末混合物得到的：

-ZrSi₂的粒度是15-50μm

-Si粒度是30-90μm

-Al粒度是45-75μm。