[實用新型]高壓功率集成電路隔離結構無效
| 申請號: | 200620165096.8 | 申請日: | 2006-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN200993963Y | 公開(公告)日: | 2007-12-19 |
| 發明(設計)人: | 易揚波;徐申;李海松;孫偉鋒;夏曉娟;李杰;時龍興 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L27/092 | 分類號: | H01L27/092;H01L27/04 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 | 代理人: | 陸志斌 |
| 地址: | 21009*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高壓 功率 集成電路 隔離 結構 | ||
1、一種高壓功率集成電路隔離結構,包括:P型襯底(1),在P型襯底(1)設有N型外延(2),在N型外延(2)上設有2塊場氧化層(3、4),其特征在于在N型外延(2)上設有重摻雜N型區(5)且該重摻雜N型區(5)位于2塊場氧化層(3、4)之間,在N型外延(2)內設有2個P型隔離阱(6、7),該2個P型隔離阱(6、7)分別位于2塊場氧化層(3、4)的下方,并且該2個P型隔離阱(6、7)將N型外延(2)分隔成3塊,上述重摻雜N型區(5)位于2個P型隔離阱(6、7)之間,在2個P型隔離阱(6、7)的上端分別設有重摻雜P型區(8、9),上述重摻雜N型區(5)及重摻雜P型區(8、9)與零電位相連接。
2、根據權利要求1所述的高壓功率集成電路隔離結構,其特征在于在場氧化層(3、4)、重摻雜P型區(8、9)及重摻雜N型區(5)上設有介質層(10),在介質層(10)設有接零電位金屬(11)且該接零電位金屬(11)與重摻雜N型區(5)及重摻雜P型區(8、9)連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東南大學,未經東南大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200620165096.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





