[實(shí)用新型]一種接地護(hù)罩無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200620134706.8 | 申請(qǐng)日: | 2006-08-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN200996040Y | 公開(公告)日: | 2007-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·W·蒂勒;A·蘇布拉馬尼;M·S·考克斯;K·A·米勒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/22 | 分類號(hào): | C23C14/22;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 接地 護(hù)罩 | ||
1.一種接地護(hù)罩,其特征在于包括:
大致圓柱形主體,其包括:
外壁;
內(nèi)上壁;
內(nèi)下壁,其所具有的直徑小于所述內(nèi)上壁的直徑;和
凹角特征,其連接所述上壁和所述內(nèi)下壁。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體是由不銹鋼制成的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體是由鈦制成的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體是由導(dǎo)電材料制成或者涂布的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體的至少一部分進(jìn)行表面處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體的至少一部分具有經(jīng)珠光處理的表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于進(jìn)一步包括:
從所述外壁延伸的裝配凸緣。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述裝配凸緣進(jìn)一步包括:
多個(gè)形成于其中的槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體,除了所述槽之外,具有經(jīng)珠光處理的表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述槽是以極性陣列排列的。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述槽具有穿過(guò)所述凸緣的外壁的端部開口。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述槽是相對(duì)于所述主體的中心線在徑向上定向的。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述內(nèi)上壁是向外張開的。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于進(jìn)一步包括:
多個(gè)槽,其形成于所述接地護(hù)罩一側(cè)并與所述凹角特征相對(duì)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述凹角特征所具有的直徑大于所述內(nèi)上壁的鄰接部分的直徑。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述凹角特征所具有的直徑小于所述內(nèi)下壁的鄰接部分的直徑。
17.一種接地護(hù)罩,其特征在于包括:
大致圓柱形主體,其包括:
外壁;
裝配凸緣,其從所述外壁延伸,并具有多個(gè)形成于其中并在徑向上定向的槽;
內(nèi)上壁,其朝向所述主體的頂端向外張開;
內(nèi)下壁,其形成于所述主體的底端,并且所具有的直徑小于所述內(nèi)上壁的直徑;和
凹角特征,其連接所述上和內(nèi)下壁,所述凹角特征從所述內(nèi)上壁向下和向外延伸。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體的至少一部分具有經(jīng)珠光處理的表面。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的接地護(hù)罩,其特征在于所述主體包含不銹鋼或者鈦至少其中之一。
20.一種接地護(hù)罩,其特征在于包括:
大致圓柱形不銹鋼主體,其包括:
外壁;
內(nèi)壁,其具有上部和下部,所述內(nèi)壁的上部朝向所述主體的頂端向外張開并且所具有的直徑大于所述下部的直徑;
裝配凸緣,其從所述外壁延伸至外部壁,并且具有面向所述主體的底端的支承表面;
多個(gè)槽,其以極性陣列排列,并且形成于所述支承表面中,所述槽具有延伸穿過(guò)所述裝配凸緣的外部壁的開口端;和
凹角特征,其從所述內(nèi)壁的上部向下和向外延伸,并且從所述內(nèi)壁的下部向上和向外延伸。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





