[實用新型]半導體裝置及電壓夾止裝置無效
| 申請號: | 200620122249.0 | 申請日: | 2006-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN200990378Y | 公開(公告)日: | 2007-12-12 |
| 發明(設計)人: | 蔣秋志;黃志豐;伍佑國;林隆世 | 申請(專利權)人: | 崇貿科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/04 | 分類號: | H01L27/04;H01L29/772 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 陶鳳波;侯宇 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 電壓 | ||
1.一種半導體裝置,其特征是包括具有摻雜分布的阱,所述阱包括其相對位置隨電壓變化而變化的一第一耗盡邊界和一第二耗盡邊界,其中當所述第一耗盡邊界和所述第二耗盡邊界夾止時,由一電壓電勢所控制的一最大輸出電壓電勢在所述半導體裝置的一輸出端子處輸出。
2.根據權利要求1所述的半導體裝置,其特征是所述阱包含與所述半導體裝置的表面平行的一不連續離子摻雜區。
3.根據權利要求2所述的半導體裝置,其特征是所述不連續離子摻雜區具有一寬度,所述寬度與最大輸出電壓電勢相關。
4.根據權利要求1所述的半導體裝置,其特征是具有互補于所述阱的摻雜極性的一互補摻雜區,所述互補摻雜區與最大輸出電壓電勢相關。
5.一種電壓夾止裝置,包含一輸入端子、一輸出端子和一控制端子,其特征是所述輸入端子經由一準連接阱連接到所述輸出端子,所述控制端子連接到具有互補于所述準連接阱的摻雜極性的一控制阱,在所述準連接阱下的一區具有互補于所述準連接阱的摻雜極性,其中所述準連接阱包括其相對位置隨電壓變化而變化的一第一耗盡邊界和一第二耗盡邊界,當所述第一耗盡邊界和所述第二耗盡邊界夾止時,所述控制端子處的一電壓電勢所控制的一最大輸出電壓電勢會透過所述輸出端子處輸出。
6.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述控制阱的一摻雜濃度與所述最大輸出電壓電勢相關。
7.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述準連接阱具有與所述控制阱平行的一不連續離子摻雜區。
8.根據權利要求7所述的電壓夾止裝置,其特征是所述不連續離子摻雜區的尺寸與所述最大輸出電壓電勢相關。
9.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是具有互補于所述準連接阱的摻雜極性的一邊緣阱將所述準連接阱圍起,其中所述邊緣阱與所述準連接阱彼此未直接連接。
10.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述控制阱的摻雜濃度范圍是從3.3×1017/cm3到1×1019/cm3。
11.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述準連接阱的摻雜濃度范圍是從1.7×1017/cm3到8.3×1018/cm3。
12.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述準連接阱的深度范圍是從2μm到10μm。
13.根據權利要求5所述的電壓夾止裝置,其特征是所述控制阱的深度范圍是從1μm到5μm。
14.根據權利要求7所述的電壓夾止裝置,其特征是平行于所述控制阱的所述不連續離子摻雜區的寬度范圍是介于0μm到20μm之間。
15.根據權利要求9所述的電壓夾止裝置,其特征是所述邊緣阱的摻雜濃度范圍是從3.3×1017/cm3到1×1019/cm3。
16.根據權利要求9所述的電壓夾止裝置,其特征是所述邊緣阱的深度范圍是從1μm到5μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





