[發(fā)明專利]一種還原罐的多層布置方法及其配套窯體無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610201023.4 | 申請日: | 2006-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN101168800A | 公開(公告)日: | 2008-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張繼強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 貴州世紀(jì)天元礦業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | C22B5/16 | 分類號: | C22B5/16 |
| 代理公司: | 貴陽中新專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 李大剛 |
| 地址: | 550002貴州省貴陽市*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 還原 多層 布置 方法 及其 配套 | ||
1.一種還原罐的多層布置方法,其特征在于:該方法以窯體作為還原罐的支撐,在窯體的后墻和前墻上設(shè)置一層或一層以上列向間隔排列的后支撐和前支撐;用于支撐同一個(gè)還原罐的前支撐高于后支撐,各還原罐以3~60°傾斜放置在后支撐和前支撐之間,還原罐設(shè)有結(jié)晶器的一端向上放置在前支撐上,還原罐設(shè)有出渣口的一端向下放置在后支撐上;結(jié)晶器和出渣口處于窯體的前、后墻之外。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:各還原罐以15~30°傾斜放置在后支撐和前支撐之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:前支撐和后支撐的層間距為50~400毫米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:前支撐和后支撐的層間距為120~250毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:各層還原罐的列間距為50~400毫米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:各層還原罐的列間距為120~250毫米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原罐的多層布置方法,其特征在于:還原罐采用圓形或矩形,還原罐的層與層之間,或列與列之間可交錯(cuò)排列。
8.按照權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述還原罐的多層布置方法構(gòu)筑的配套窯體,其特征在于:在窯體(4)的后墻和前墻上設(shè)置一層或一層以上列向間隔排列的后支撐(2)和前支撐(3);用于支撐同一個(gè)還原罐(1)的前支撐(3)高于后支撐(2)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的配套窯體,其特征在于:在窯體(4)外的前支撐(3)和后支撐(2)處設(shè)有加強(qiáng)支撐。
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