[發明專利]基板搬運裝置、基板搬運方法以及基板處理系統

無效

• 申請號: 200610173298.1
• 申請日: 2006-12-15
• 公開（公告）號: CN101096245A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 堀口貴弘
• 申請（專利權）人: 株式會社未來視野
• 主分類號: B65G49/06
• 分類號: B65G49/06;B65G49/07;B65G37/00;G02F1/1333;H01L21/677
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 何騰云

技術領域

本發明有關用于液晶顯示(LCD)板的玻璃基板等基板搬運的基板搬運裝置、基板搬運方法以及利用這種基板搬運的基板處理系統。

背景技術

現在，在一般的半導體基板及LCD玻璃基板的處理系統中，相對搬運系并列設置了涂布和顯像處理裝置及蝕刻裝置等多個處理裝置。這種LCD玻璃基板處理系統中的搬運系中，有一種具有為了把基板搬入和搬出真空系處理裝置內，而在真空下(或者減壓下)搬運基板的功能。

這種搬運裝置，在真空腔內使用傳送帶(材質：金屬及合成橡膠)及齒輪進行動力傳遞，利用輥、機械臂及移動板之類的機構搬運基板。為了在真空腔內驅動這些機構，需要把驅動力從配置在大氣側的驅動源傳遞到配置在腔內真空側的搬運裝置，隔壁上開孔，轉軸插入其中以把動力傳遞到真空內。

可是，現有的驅動力傳遞方法，在把旋轉驅動力傳遞到真空內時，轉軸上使用密封填料及磁性流體，存在著來自這些構件的微粒及氣體排出的問題。

對此，在以下專利文獻1中，介紹了使用由大氣側外環磁鐵和真空側內環磁鐵組成的磁偶合，以把驅動力傳遞到真空中的機械臂上的基板搬運用真空機器人。

特開2002-66976號公報(JP-A-2002-66976)

發明內容

【需要解決的課題】

然而，近年，為了降低搬運裝置所占的面積，同時更有效地搬運基板，開始要求在真空腔內對搬運機構的一部分進行驅動力傳遞脫離并且使整個搬運機構進行上下運動等高度化動作控制。為了進行這種高度化動作控制，需要可介于齒輪自由地對驅動軸和從動軸進行脫離和結合的同步機構。機械式同步機構結構較復雜，齒輪等還會引起物理性接觸和摩擦，是微粒產生根源。此外，使用傳送帶等的情況也一樣，由于金屬及合成橡膠摩擦而產生微粒。另外，還擔心物理性接觸和摩擦部位所使用的潤滑劑有氣體排出以及出現真空污染問題。

【解決課題的手段】

因此，本發明的特征在于，在真空裝置內的基板搬運中，(1)介于真空腔隔壁通過磁結合(磁偶合)把驅動力從大氣側傳遞到真空側；(2)還在真空腔內利用磁偶合進行驅動力的傳遞；(3)在真空腔內，由于使用對驅動力的傳遞進行脫離和結合的磁偶合，故不需要齒輪之類的機械式同步機構。

【發明效果】

利用本發明，可在真空裝置內進行高度化動作控制的基板搬運裝置，可以極力地排除機械式接觸和摩擦，最大限度地減少微粒和氣體排放的發生，并可以使結構簡化。

附圖簡單說明

圖1是基板處理系統的概略圖。

圖2是表示垂直傳輸帶機構的圖。

圖3是利用垂直傳輸帶進行基板搬運的說明圖。

圖4是表示真空系處理裝置概略的圖。

圖5是圖4所示的基板搬運裝置(32)的俯視圖。

圖6是用圖4所示的基板搬運裝置(32)搬運基板過程中的剖面圖。

圖7是圖4所示的基板搬運裝置(32)停止搬運基板后的剖面圖。

圖8是驅動磁鐵(330)和第一從動磁鐵(331)的放大圖。

圖9是圖8所示的虛線A-A′的剖面圖。

具體實施方式

以下，使用附圖，就本發明的實施例進行說明。

[實施例一]

參照圖1，就本發明基板處理系統的一例進行說明。圖1所示的LCD玻璃基板處理系統1，由把LCD玻璃基板(以下簡稱為“基板”)L搬入該處理系統及在處理結束后搬出的搬入搬出裝置10、在大氣壓下對基板進行處理的大氣系處理裝置20·21、在減壓下對基板L進行處理的真空系處理裝置30、在搬入搬出裝置10和大氣系處理裝置20·21及真空系處理裝置30之間進行連接并對基板L進行搬運的搬運系統40構成。大氣系處理裝置，例如有清洗裝置、涂布和顯像裝置、曝光裝置等，真空系處理裝置有蝕刻裝置、成膜裝置和離子注入裝置等。

在圖1的LCD玻璃基板處理系統1中，搬入搬出裝置10具有搬入部130和搬出部140，它們與使基板L進行升降移動的搬入搬出傳輸帶150連結。

此外，一端部與搬入搬出裝置10連結的搬運系統40，具有與搬入部130接續的上側傳輸帶410和與搬出部140接續的下側傳輸帶420。進而，在搬運路徑的各處，在上側傳輸帶410和下側傳輸帶420之間配設了對基板L進行搬運的垂直傳輸帶461·462·463·464·465。

大氣系處理裝置20·21，沿著搬運系統40的搬運路徑，分別與垂直傳輸帶462·464對應配置。此外，搬運系統40的另一端側，與垂直傳輸帶465相接并配設了真空系處理裝置30。