[發(fā)明專利]無時(shí)間延遲的連續(xù)式真空制程設(shè)備及真空加工方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610152035.2
• 申請(qǐng)日: 2006-09-11
• 公開（公告）號(hào): CN101144149A
• 公開（公告）日: 2008-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉啟志;陳在樸;黃光昭;楊維鈞;呂仲麟;陳博裕;聶亨蕓;楊正旭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 柏騰科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/22
• 分類號(hào): C23C14/22;C23C14/24;C23C14/34
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 李柏

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種連續(xù)式的真空制程設(shè)備。此類設(shè)備可廣泛應(yīng)用于任何需要于真空下進(jìn)行加工及/或檢測(cè)工作的制程，例如光學(xué)或電子產(chǎn)品的蒸鍍或?yàn)R鍍制程。

背景技術(shù)

中國實(shí)用新型第03219715.2號(hào)揭示了一種連續(xù)式蒸鍍或?yàn)R鍍機(jī)，包括真空鍍膜機(jī)，所述真空鍍膜機(jī)的兩端分別密封連接在若干個(gè)進(jìn)件真空過渡室和出件真空過渡室，每個(gè)進(jìn)件真空過渡室和出件真空過渡室均安裝有抽真空裝置，進(jìn)件真空過渡室、真空鍍膜機(jī)和出件真空過渡室之間貫通有工件傳動(dòng)裝置，每個(gè)室與室之間均設(shè)有密封移動(dòng)門裝置。操作時(shí)，工件被送入第一真空過渡室后須等到其真空度與后續(xù)的第二真空過渡室的真空度相等時(shí)，才將工件由第一真空過渡室送入第二真空過渡室，當(dāng)?shù)诙婵者^渡室的真空度與后續(xù)的第三真空過渡室的真空度相等時(shí)，才將工件由第二真空過渡室送入第三真空過渡室，當(dāng)?shù)谌婵者^渡室的真空度與真空鍍膜機(jī)的真空度相等時(shí)，才將工件由第三真空過渡室送入真空鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜，才將工件由第一真空過渡室送入第二真空過渡室整體真空鍍膜加工。雖然此實(shí)用新型可以使真空鍍膜機(jī)始終處于真空狀態(tài)，實(shí)現(xiàn)真空鍍膜機(jī)的連續(xù)工作。但是工件傳輸上仍有時(shí)間延遲的問題，亦即工件的鍍膜加工程序仍是間歇式操作，因此有進(jìn)一步被提高生產(chǎn)效率的改良空間。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一主要目的在于提出一種無時(shí)間延遲的連續(xù)式真空制程設(shè)備，來改善現(xiàn)有的真空制程設(shè)備進(jìn)行具有的工件傳輸?shù)臅r(shí)間延遲問題，縮短或避免工件傳輸所造成的時(shí)間延遲，因而提高生產(chǎn)效率。

為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的一種依照本發(fā)明內(nèi)容所完成的無時(shí)間延遲的連續(xù)式真空制程設(shè)備包含：一真空制程室；一前初級(jí)真空室及一后初級(jí)真空室分別連接該真空制程室的工件進(jìn)口和工件出口；一前真空過渡室及一后真空過渡室分別連接該前初級(jí)真空室及后初級(jí)真空室，其中該前真空過渡室、前初級(jí)真空室、真空制程室、后初級(jí)真空室、及后真空過渡室都安裝有一抽真空裝置及安裝有一貫通其間的工件傳動(dòng)裝置；設(shè)置于該前真空過渡室的入口的第一密封移動(dòng)門裝置；設(shè)置于該前真空過渡室和該前初級(jí)真空室之間的第二密封移動(dòng)門裝置；設(shè)置于該前初級(jí)真空室和該真空制程室之間的第三密封移動(dòng)門裝置；設(shè)置于該真空制程室和該后初級(jí)真空室之間的第四密封移動(dòng)門裝置；設(shè)置于該后初級(jí)真空室和該后真空過渡室之間的第五密封移動(dòng)門裝置；設(shè)置于該后真空過渡室的出口的第六密封移動(dòng)門裝置；及一控制裝置其用于控制該工件傳動(dòng)裝置輸送工件的速度及該第一至第六密封移動(dòng)門裝置的開啟及關(guān)閉，使得工件為該工件傳動(dòng)裝置連續(xù)的輸送通過該前真空過渡室、前初級(jí)真空室、真空制程室、后初級(jí)真空室、及后真空過渡室，及使該第一至第六密封移動(dòng)門裝置在工件到達(dá)時(shí)被開啟及工件通過后被關(guān)閉，且相鄰的兩密封移動(dòng)門裝置未同時(shí)開啟。

較佳的，該真空制程室內(nèi)配備有濺鍍裝置或蒸鍍裝置。

較佳的，該真空制程室內(nèi)配備有檢測(cè)裝置，例如掃描式電子顯微鏡或光譜儀。

較佳的，本發(fā)明的連續(xù)式真空制程設(shè)備具有多于一個(gè)的真空制程室，該多個(gè)真空制程室介于該前初級(jí)真空室和后初級(jí)真空室之間且互相串聯(lián)。

較佳的，該多個(gè)真空制程室的每一室同時(shí)或單獨(dú)的配備有濺鍍裝置、蒸鍍裝置或檢測(cè)裝置，但濺鍍裝置和蒸鍍裝置不同時(shí)配備于一個(gè)真空制程室。

實(shí)施方式

本發(fā)明揭示一種使用前述本發(fā)明的設(shè)備進(jìn)行無時(shí)間延遲的連續(xù)式真空加工方法，包含下列步驟：

a)啟動(dòng)該前真空過渡室、前初級(jí)真空室、真空制程室、后初級(jí)真空室、及后真空過渡室的抽真空裝置，使得該真空制程室具有一適于進(jìn)行真空加工的低壓；

b)啟動(dòng)該工件傳動(dòng)裝置及該控制裝置，使得工件為該工件傳動(dòng)裝置連續(xù)的輸送通過該前真空過渡室、前初級(jí)真空室、真空制程室、后初級(jí)真空室、及后真空過渡室，及使該第一至第六密封移動(dòng)門裝置在工件到達(dá)時(shí)被開啟及工件通過后被關(guān)閉，且相鄰的兩密封移動(dòng)門裝置未同時(shí)開啟；

其中該工件通過該前真空過渡室所需的時(shí)間足夠該前真空過渡室被抽真空至一想要的低壓；

該工件通過該前初級(jí)真空室所需的時(shí)間足夠該前初級(jí)真空室被抽真空至一等于該真空制程室的低壓；

該工件在通過該真空制程室時(shí)被進(jìn)行真空加工；

該工件通過該后初級(jí)真空室所需的時(shí)間足夠該后初級(jí)真空室被抽真空至一等于該真空制程室的低壓；及

該工件通過該后真空過渡室所需的時(shí)間足夠該后真空過渡室被抽真空至一想要的低壓。

較佳的，該真空制程室具有10^-1至10^-4torr的壓力。

較佳的，該前初級(jí)真空室及后初級(jí)真空室的壓力變化介于常壓至真空制程室的壓力。