[發明專利]無時間延遲的連續式真空制程設備及真空加工方法

無效

• 申請號: 200610152035.2
• 申請日: 2006-09-11
• 公開（公告）號: CN101144149A
• 公開（公告）日: 2008-03-19
• 發明（設計）人: 劉啟志;陳在樸;黃光昭;楊維鈞;呂仲麟;陳博裕;聶亨蕓;楊正旭
• 申請（專利權）人: 柏騰科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/24;C23C14/34
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 李柏

1.一種無時間延遲的連續式真空制程設備，包含一真空制程室，其特征是：包含一前初級真空室及一后初級真空室分別連接該真空制程室的工件進口和工件出口；一前真空過渡室及一后真空過渡室分別連接該前初級真空室及后初級真空室，其中該前真空過渡室、前初級真空室、真空制程室、后初級真空室、及后真空過渡室都安裝有一抽真空裝置及安裝有一貫通其間的工件傳動裝置；設置于該前真空過渡室的入口的第一密封移動門裝置；設置于該前真空過渡室和該前初級真空室之間的第二密封移動門裝置；設置于該前初級真空室和該真空制程室之間的第三密封移動門裝置；設置于該真空制程室和該后初級真空室之間的第四密封移動門裝置；設置于該后初級真空室和該后真空過渡室之間的第五密封移動門裝置；設置于該后真空過渡室的出口的第六密封移動門裝置；及一控制裝置其用于控制該工件傳動裝置輸送工件的速度及該第一至第六密封移動門裝置的開啟及關閉，使得工件為該工件傳動裝置連續的輸送通過該前真空過渡室、前初級真空室、真空制程室、后初級真空室、及后真空過渡室，及使該第一至第六密封移動門裝置在工件到達時被開啟及工件通過后被關閉，且相鄰的兩密封移動門裝置未同時開啟。

2.如權利要求1所述的設備，其中該真空制程室內配備有濺鍍裝置或蒸鍍裝置。

3.如權利要求2所述的設備，其中該真空制程室在該濺鍍裝置或蒸鍍裝置的上游進一步配備有用于除去工件上雜氣的前處理裝置，該前處理裝置包含紅外線裝置、電漿裝置或離子槍裝置。

4.如權利要求1、2或3所述的設備，其中該真空制程室配備有檢測裝置。

5.如權利要求4所述的設備，其中該檢測裝置為掃描式電子顯微鏡或光譜儀。

6.如權利要求1、2或3所述的設備，其具有多于一個的真空制程室，該多個真空制程室介于該前初級真空室和后初級真空室之間且互相串聯。

7.如權利要求6所述的設備，其中該多個真空制程室的每一個同時或單獨的配備有濺鍍裝置、蒸鍍裝置、或前處理裝置，但濺鍍裝置和蒸鍍裝置不同時配備于一個真空制程室。

8.如權利要求7所述的設備，其中該多個真空制程室的至少一個進一步配備有檢測裝置。

9.如權利要求8所述的設備，其中該檢測裝置為掃描式電子顯微鏡或光譜儀。

10.一種使用如權利要求1所述的設備進行無時間延遲的連續式真空加工方法，包含下列步驟：

a)啟動該前真空過渡室、前初級真空室、真空制程室、后初級真空室、及后真空過渡室的抽真空裝置，使得該真空制程室具有一適于進行真空加工的低壓；

b)啟動該工件傳動裝置及該控制裝置，使得工件為該工件傳動裝置連續的輸送通過該前真空過渡室、前初級真空室、真空制程室、后初級真空室、及后真空過渡室，及使該第一至第六密封移動門裝置在工件到達時被開啟及工件通過后被關閉，且相鄰的兩密封移動門裝置未同時開啟；

其中該工件通過該前真空過渡室所需的時間足夠該前真空過渡室被抽真空至一想要的低壓；

該工件通過該前初級真空室所需的時間足夠該前初級真空室被抽真空至一等于該真空制程室的低壓；

該工件在通過該真空制程室時被進行真空加工；

該工件通過該后初級真空室所需的時間足夠該后初級真空室被抽真空至一等于該真空制程室的低壓；及

該工件通過該后真空過渡室所需的時間足夠該后真空過渡室被抽真空至一想要的低壓。

11.如權利要求10所述的方法，其中該真空制程室具有10^-1至10^-4torr的壓力。

12.如權利要求10所述的方法，其中該前初級真空室及后初級真空室的壓力變化介于常壓至真空制程室的壓力。

13.如權利要求10所述的方法，其中該前真空過渡室的壓力變化介于一大氣壓至前初級真空室的壓力，及該后真空過渡室的壓力變化介于一大氣壓至后初級真空室的壓力。

14.如權利要求10所述的方法，其中在該真空制程室內對工件進行濺鍍或蒸鍍。

15.如權利要求14所述的方法，其中在該真空制程室內在進行濺鍍或蒸鍍之前對工件先進行用于除去工件上雜氣的前處理，該前處理包含紅外線前處理、電漿前處理或離子束前處理。