[發(fā)明專利]一種用離子束加工樣品界面實現(xiàn)背散射表征的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610134135.2 | 申請日: | 2006-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN101173881A | 公開(公告)日: | 2008-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 譚軍;張磊;張廣平;謝天生 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院金屬研究所 |
| 主分類號: | G01N1/32 | 分類號: | G01N1/32;G01N23/203;G01N13/10 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 張志偉 |
| 地址: | 110016遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子束 加工 樣品 界面 實現(xiàn) 散射 表征 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于樣品表征界面的制備和成像技術(shù),具體為一種用離子束加工樣品界面實現(xiàn)背散射表征的方法,它是利用雙束聚焦離子束系統(tǒng)加工樣品界面從而實現(xiàn)背散射成像的方法,采用雙傾轉(zhuǎn)樣品臺固定表征樣品進(jìn)行離子束制備表征界面和實現(xiàn)背散射成像。
背景技術(shù)
掃描電子顯微鏡(SEM)一般采用二次電子成像進(jìn)行材料表面顯微結(jié)構(gòu)表征,由于二次電子能量低(低于50電子伏特),只有距樣品表面很近(100)的表層二次電子才能逸出樣品表面,并被檢測、放大和成像。用于檢測二次電子的探測器,可將樣品表面各個方向發(fā)出的二次電子全部收集起來,因此掃描電鏡的二次電子像具有很強(qiáng)的立體感,直接反映表面形貌特征。而背散射電子所含樣品信息由平均元素、表面幾何形狀、結(jié)晶和磁性能等構(gòu)成,同時背散射電子能量高,試樣帶電和污染比較小,可獲得1μm的實驗信息,近年來電子背散射技術(shù)廣泛用于材料組織結(jié)構(gòu)分析。目前在掃描電鏡背散射成像樣品制備方法中,一般采用首先機(jī)械拋光隨后進(jìn)行化學(xué)拋光的方法,隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,對試樣方法提出越來越高的要求,尤其在很多易氧化、腐蝕和低硬度材料的背散射樣品制備中,難以制備出符合表征的樣品,無法實現(xiàn)背散射衍射花樣,使隨后電鏡分析結(jié)果不能反應(yīng)本征結(jié)構(gòu)。另外,如將樣品放在用于加工晶圓的單傾轉(zhuǎn)臺,可能使樣品在轉(zhuǎn)移過程中造成損傷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用離子束加工樣品界面實現(xiàn)背散射表征的方法,采用樣品室內(nèi)雙傾轉(zhuǎn)臺法代替用于加工晶圓的單傾轉(zhuǎn)臺和利用聚焦離子束加工背散射電子表征界面,簡單易行,可以制備出符合掃描電鏡需求的背散射表征樣品,避免了氧化、腐蝕和表面劃痕的影響,較好反映需要分析的樣品表面特征。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:
本發(fā)明背散射樣品界面離子束加工和表征方法,采用聚焦離子束系統(tǒng)結(jié)合雙傾轉(zhuǎn)樣品臺和固定表征樣品進(jìn)行離子束制備表征界面,進(jìn)而實現(xiàn)背散射成像,主要由以下步驟完成:
1、在聚焦離子束系統(tǒng)中將需要表征的樣品采用碳導(dǎo)電膠固定在樣品托上,用緊固螺栓固定樣品托在聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺上,防止松動,保持副樣品臺與試樣之間的良好導(dǎo)電性,需要制備表征的部位向側(cè)面放置;
2、利用二次電子成像對樣品高度進(jìn)行校準(zhǔn)識別,將樣品與二次電子探測器之間的工作距離調(diào)整為4.9~5.1mm,聚焦樣品上表面;
3、傾轉(zhuǎn)聚焦離子束系統(tǒng)主傾轉(zhuǎn)臺至與水平方向成50~54度,同時打開離子束,進(jìn)行雙束對中處理,離子束極靴與樣品對中距離為16.3~16.7mm,保持離子束加工位置和二次電子觀測位置的統(tǒng)一;
4、采用離子束大束流(>3nA)預(yù)加工表征界面,采用小束流(50PA~100PA)精加工制備完畢樣品需表征界面,加工界面呈鏡面光潔,無束流梳狀痕跡,達(dá)到表征要求,在背散射衍射中出現(xiàn)清晰菊池線花樣;
5、旋轉(zhuǎn)聚焦離子束系統(tǒng)主傾轉(zhuǎn)臺50~54度回到原始平衡位置,此時需背散射表征界面與二次電子束平行;
6、旋轉(zhuǎn)聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺90度,實現(xiàn)離子束加工界面與入射電子束的垂直,啟用背散射探測器實現(xiàn)背散射電子界面表征。
所述雙傾轉(zhuǎn)樣品臺為在聚焦離子束系統(tǒng)主傾轉(zhuǎn)臺上通過傳動軸安裝與聚焦離子束系統(tǒng)主傾轉(zhuǎn)臺轉(zhuǎn)向相同的聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺,聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺通過齒輪帶動傳動軸傾轉(zhuǎn)。
所述步驟4)中,大束流范圍為3-20nA。
所述步驟1)中,樣品采用碳導(dǎo)電膠固定在樣品托上,用緊固螺栓固定樣品托在聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺上。
所述步驟1)中,樣品托通過與聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺連接的銷一端插裝固定,與聚焦離子束系統(tǒng)副傾轉(zhuǎn)臺連接的銷另一端用緊固螺栓固定。
本發(fā)明采用雙束聚焦離子束系統(tǒng),“雙束”是指電子束+離子束;雙束聚焦離子束系統(tǒng)中,離子束的作用是加工樣品,逐漸實現(xiàn)樣品表征的界面的光潔平整性;電子束的作用是二次電子成像和背散射成像,與樣品加工界面保持垂直,選擇背散射探測器對樣品加工界面進(jìn)行表征。離子束極靴是在電子束系統(tǒng)的最下端的組件,可以施加電場,實現(xiàn)電子進(jìn)入探測器。
本發(fā)明的有益效果是:
1、本發(fā)明利用聚焦離子束系統(tǒng)結(jié)合雙傾轉(zhuǎn)臺進(jìn)行背散射樣品界面加工和表征,采用聚焦離子束系統(tǒng)加工背散射電子表征界面,更容易在背散射電子束下成像,減少樣品的腐蝕、氧化和表面劃痕等因素的影響和干擾,為實現(xiàn)高分辨分析表征樣品創(chuàng)造條件。
2、本發(fā)明可以實現(xiàn)對樣品需要表征部位進(jìn)行精確定點、定位加工,突破二維尺度研制實現(xiàn)材料表面下微觀界面的表征。
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