[發明專利]噴墨圖案轉移制程及其裝置有效
| 申請號: | 200610109742.3 | 申請日: | 2006-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN101121348A | 公開(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發明(設計)人: | 余丞宏;余丞博 | 申請(專利權)人: | 欣興電子股份有限公司 |
| 主分類號: | B41M3/12 | 分類號: | B41M3/12;B41M1/00 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國臺灣桃園縣*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴墨 圖案 轉移 及其 裝置 | ||
1.一種噴墨圖案轉移制程,其特征在于其包括下列步驟:
提供一載具,并噴印油墨在該載具上,以形成一成膜圖案;
將該成膜圖案與一基板的表面進行面對面接觸;
固化該成膜圖案;以及
移除該載具,以使該成膜圖案轉印到該基板的表面。
2.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該基板具有一通孔及一導電層,該導電層位于該通孔中,而該成膜圖案對應覆蓋在該通孔上方及周圍表面。
3.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該基板具有一盲孔及一導電層,該導電層位于該盲孔中,而該成膜圖案對應覆蓋于該盲孔上方及周圍表面。
4.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該載具選自一硬板、一軟板或一離型紙,其具有可承載該成膜圖案的一平坦表面。
5.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中形成該成膜圖案之前,更包括對該載具進行親水性、疏水性或易脫膜處理。
6.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中將該成膜圖案與一基板的表面進行面對面接觸的步驟中,包括將該載具上的成膜圖案轉印或壓合至該基板的表面。
7.根據權利要求1項所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中固化該成膜圖案的步驟包括以光固化器所產生的光能照射該成膜圖案而成。
8.根據權利要求1所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中固化該成膜圖案的步驟包括以熱固化器所產生的熱能加熱該成膜圖案而成。
9.一種噴墨圖案轉移制程,其特征在于其包括下列步驟:
提供一載具,并噴印油墨在該載具上,以形成一成膜圖案;
半固化該成膜圖案;
將該成膜圖案與一基板的表面進行面對面接觸;以及
移除該載具,以使該成膜圖案轉印到該基板的表面上。
10.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該基板具有一通孔及一導電層,該導電層位于該通孔中,而該成膜圖案對應覆蓋于該通孔上方及周圍表面。
11.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該基板具有一盲孔及一導電層,該導電層位于該盲孔中,而該成膜圖案對應覆蓋于該盲孔上方及周圍表面。
12.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中該載具選自一硬板、一軟板或一離型紙,其具有可承載該成膜圖案的一平坦表面。
13.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中形成該成膜圖案之前,更包括對該載具進行親水性、疏水性或易脫膜處理。
14.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中將該成膜圖案與一基板的表面進行面對面接觸的步驟中,包括將該載具上的成膜圖案轉印或壓合至該基板的表面。
15.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在其中半固化該成膜圖案的步驟包括以光固化器所產生的光能照射該成膜圖案而成。
16.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其中半固化該成膜圖案的步驟包括以熱固化器所產生的熱能加熱該成膜圖案而成。
17.根據權利要求9所述的噴墨圖案轉移制程,其特征在于其更包括固化轉印到該基板的表面上的該半固化成膜圖案。
18.一種噴墨圖案轉移裝置,其特征在于其包括:
一載具,用以放置噴墨所形成的一成膜圖案,該成膜圖案適于與一基板的表面面對面接觸;以及
一固化器,用以固化該成膜圖案。
19.根據權利要求18所述的噴墨圖案轉移裝置,其特征在于其中該基板具有一通孔及一導電層,該導電層位于該通孔中,而該成膜圖案對應覆蓋于該通孔上方及周圍表面。
20.根據權利要求18所述的噴墨圖案轉移裝置,其特征在于其中該基板具有一盲孔及一導電層,該導電層位于該盲孔中,而該成膜圖案對應覆蓋于該盲孔上方及周圍表面。
21.根據權利要求18所述的噴墨圖案轉移裝置,其特征在于其中該載具包括一硬板、一軟板或一離型紙,其具有可承載該成膜圖案的一平坦表面。
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