[發明專利]光掩膜復驗方法與系統

無效

• 申請號: 200610108223.5
• 申請日: 2006-08-01
• 公開（公告）號: CN101118388A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發明（設計）人: 黃新政
• 申請（專利權）人: 力晶半導體股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 呂曉章;李曉舒

1.一種光掩膜復驗方法，包括下列步驟：

根據多個工藝權重因子對多個光掩膜進行排序；

根據計算所得的權重決定上述光掩膜的優先權以進行派工；

根據工藝狀況依序決定是否對上述光掩膜執行復驗的流程；

若要復驗，則對其中一光掩膜執行一復驗程序；以及

將復驗后的光掩膜的優先權進行重置，并且對下一光掩膜執行上述派工與上述復驗的流程。

2.如權利要求1所述的光掩膜復驗方法，其更包括根據上述工藝權重因子并利用一權重公式計算上述光掩膜的優先權。

3.如權利要求2所述的光掩膜復驗方法，其中，上述權重公式表示為：

總權重＝Wip×Sum(Factor1×Weight1+Factor2×Weight2+...)，

其中，Sum()為加總函數，Factor表示權重因子，Weight表示權重。

4.如權利要求3所述的光掩膜復驗方法，其中，上述權重因子包括緊急批量、裸晶數、在制品、曝光時間、產品、工藝、層、閑置時間以及高曝光能量。

5.一種光掩膜復驗系統，包括：

一光掩膜儲存區，其儲存已制作完成的多個光掩膜；

一派工系統，其根據多個工藝權重因子對多個光掩膜進行排序，并且根據計算所得的權重決定上述光掩膜的優先權以進行派工；以及

一復驗系統，其根據工藝狀況依序決定是否對上述光掩膜執行復驗的流程，若要復驗，則對其中一光掩膜執行一復驗程序，將復驗后的光掩膜的優先權進行重置，并且對下一光掩膜執行上述派工與上述復驗的流程。

6.如權利要求5所述的光掩膜復驗系統，其中，上述派工系統更根據上述工藝權重因子并利用一權重公式計算上述光掩膜的優先權。

7.如權利要求6所述的光掩膜復驗系統，其中，上述權重公式表示為：

總權重＝Wip×Sum(Factor1×Weight1+Factor2×Weight2+...)，

其中，Sum()為加總函數，Factor表示權重因子，Weight表示權重。

8.如權利要求7所述的光掩膜復驗系統，其中，上述權重因子包括緊急批量、裸晶數、在制品、曝光時間、產品、工藝、層、閑置時間以及高曝光能量。