[發明專利]半導體構裝結構及其制法無效
| 申請號: | 200610100758.8 | 申請日: | 2006-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN101097872A | 公開(公告)日: | 2008-01-02 |
| 發明(設計)人: | 曾文聰;蔡芳霖;蔡和易;蕭承旭;黃致明 | 申請(專利權)人: | 矽品精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L23/367 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 結構 及其 制法 | ||
1.一種半導體構裝結構的制法,包括:
提供基板及具開孔的散熱件,且該基板設置有辨識點;
以檢知系統透過該散熱件的開孔檢視該基板上的該辨識點,以將該散熱件定位于該基板;以及
將該散熱件透過膠粘劑粘置于該基板。
2.根據權利要求1所述的半導體構裝結構的制法,其中,該辨識點是鍍于基板的金屬層。
3.根據權利要求1所述的半導體構裝結構的制法,其中,該辨識點是圓點。
4.根據權利要求1所述的半導體構裝結構的制法,其中,該辨識點呈十字形。
5.根據權利要求1所述的半導體構裝結構的制法,其中,該檢知系統是電荷耦合裝置(CCD)。
6.根據權利要求1所述的半導體構裝結構的制法,其中,該散熱件包括有一平坦部,及與該平坦部一體連接以將該平坦部撐起一預設高度的支撐部。
7.根據權利要求6所述的半導體構裝結構的制法,其中,該開孔位于該散熱件的支撐部。
8.根據權利要求6所述的半導體構裝結構的制法,其中,該基板上接置并電性連接有半導體芯片,且使該半導體芯片位于該散熱件平坦部的下方空間。
9.一種半導體構裝結構,包括:
基板,且于該基板上形成有辨識點;以及
具開孔的散熱件,接置于該基板上,以供該辨識點顯露于該開孔。
10.根據權利要求9所述的半導體構裝結構,其中,該辨識點是鍍于基板的金屬層。
11.根據權利要求9所述的半導體構裝結構,其中,該辨識點是圓點。
12.根據權利要求9所述的半導體構裝結構,其中,該辨識點呈十字形。
13.根據權利要求9所述的半導體構裝結構,其中,該散熱件包括有一平坦部,及與該平坦部一體連接以將該平坦部撐起一預設高度的支撐部。
14.根據權利要求13所述的半導體構裝結構,其中,該開孔位于該散熱件的支撐部。
15.根據權利要求13所述的半導體構裝結構,其中,該基板上接置并電性連接有半導體芯片,且使該半導體芯片位于該散熱件平坦部的下方空間。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





