[發(fā)明專(zhuān)利]覆晶封裝結(jié)構(gòu)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200610099190.2 | 申請(qǐng)日: | 2006-08-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101118885A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王俊恒;沈更新 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南茂科技股份有限公司;百慕達(dá)南茂科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/48 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/48;H01L23/28 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹縣新竹*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 封裝 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種覆晶封裝結(jié)構(gòu),且特別是有關(guān)于一種將晶片覆于軟性承載器上的覆晶封裝結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
覆晶封裝技術(shù)(Flip?Chip?Package?Technology)主要是在晶片的主動(dòng)表面(active?surface)上配置多個(gè)焊墊(bonding?pad),并分別在這些焊墊上形成凸塊(bump),藉由焊墊上的凸塊即可電性(electrically)連接至軟性承載器(flexible?carrier)上,其中軟性承載器例如是軟性電路板(Flexible?Printed?Circuit?board,簡(jiǎn)稱(chēng)FPC)。值得注意的是,由于覆晶接合技術(shù)可應(yīng)用于高接腳數(shù)(High?Pin?Count)的晶片封裝結(jié)構(gòu),并具有縮小封裝面積及縮短訊號(hào)傳輸路徑等諸多優(yōu)點(diǎn),使得覆晶封裝技術(shù)目前已被廣泛地應(yīng)用在晶片封裝領(lǐng)域。
圖1為現(xiàn)有的一種覆晶封裝結(jié)構(gòu)的示意圖。請(qǐng)參考圖1,現(xiàn)有的覆晶封裝結(jié)構(gòu)100包括一晶片110、一軟性承載器120、多個(gè)凸塊130及一底膠層(underfill?layer)140。晶片110具有一主動(dòng)表面112、多個(gè)焊墊114,其中焊墊114位于主動(dòng)表面112上,而凸塊130即是配置于焊墊114上。晶片110即可經(jīng)由這些凸塊130來(lái)與軟性承載器120電性連接。此外,在晶片110以及軟性承載器120之間形成底膠層140以包覆凸塊130,其中底膠層140用以緩沖晶片110與軟性承載器120之間所產(chǎn)生的熱應(yīng)力(thermalstress)。
承上所述,若要使晶片110經(jīng)由凸塊130與軟性承載器120電性連接,則須對(duì)覆晶封裝結(jié)構(gòu)100進(jìn)行一回焊(reflow)制程。值得注意的是,在回焊制程中,軟性承載器120會(huì)受熱而膨脹,而在完成回焊制程后,環(huán)境溫度的降低以及軟性承載器120本身的可撓性質(zhì)將會(huì)使得軟性承載器120產(chǎn)生收縮變形的現(xiàn)象。如此一來(lái),欲在晶片110以及軟性承載器120之間澆注底膠材料以形成包覆凸塊130的底膠層140時(shí),底膠材料便無(wú)法完全充滿(mǎn)晶片110與軟性承載器120間,使得底膠層140具有多個(gè)孔洞(void)142。
然而,底膠層具有多個(gè)孔洞將使得底膠層無(wú)法完全包覆凸塊,部分凸塊即暴露于環(huán)境中。換言之,凸塊容易受到外界影響而產(chǎn)生裂縫,進(jìn)而影響到覆晶封裝結(jié)構(gòu)的可靠度。因此,如何減少底膠層中的孔洞產(chǎn)生以提高覆晶封裝結(jié)構(gòu)的可靠度是一重要課題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的就是在提供一種覆晶封裝結(jié)構(gòu),可藉由在晶片的主動(dòng)表面上配設(shè)多個(gè)擬凸塊以減少軟性承載器的變形量,進(jìn)而減少底膠層中的孔洞產(chǎn)生。
為達(dá)本發(fā)明的上述目的,本發(fā)明提出一種覆晶封裝結(jié)構(gòu),其包括一晶片、一軟性承載器、多個(gè)凸塊、多個(gè)擬凸塊以及一底膠層。晶片具有一主動(dòng)表面與配置于主動(dòng)表面的多個(gè)焊墊,而軟性承載器則具有一軟性基板與一配置于軟性基板上的線路層。此外,凸塊是配置于焊墊上,其中線路層是經(jīng)由凸塊與焊墊電性連接。另外,擬凸塊是配置于主動(dòng)表面上,其中軟性承載器經(jīng)由擬凸塊與晶片的主動(dòng)表面連接,而底膠層則是位于晶片以及軟性承載器之間,以包覆這些凸塊以及這些擬凸塊。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,晶片例如更包括配置于主動(dòng)表面上的多個(gè)擬焊墊,而這些擬凸塊配置于這些擬焊墊上。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,線路層例如是經(jīng)由這些擬凸塊與這些擬焊墊電性連接。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,軟性承載器更包括一配置于線路層上的防焊層,且防焊層暴露出與這些凸塊以及這些擬凸塊電性連接的線路層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,凸塊例如是金凸塊。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,擬凸塊例如是金凸塊。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,覆晶封裝結(jié)構(gòu)例如更包括一導(dǎo)電材料,其中導(dǎo)電材料配置于線路層與凸塊以及線路層與擬凸塊之間,且線路層經(jīng)由導(dǎo)電材料與凸塊以及擬凸塊電性連接。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,導(dǎo)電材料例如是焊料、導(dǎo)電型B階膠材、異方性導(dǎo)電膠或異方性導(dǎo)電膜。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,軟性承載器例如是軟性電路板。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,軟性基板的材料例如是聚亞酰胺。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,線路層的材料例如是銅。
基于上述,本發(fā)明在晶片的主動(dòng)表面上配設(shè)多個(gè)擬凸塊,這些擬凸塊在晶片與軟性承載器電性連接的過(guò)程中有助于軟性承載器的表面變形量較不明顯。因此,當(dāng)?shù)啄z材料注入晶片與軟性承載器之間所圍成的空間而形成底膠層時(shí),底膠材料可平順地注入,因而可降低底膠層的內(nèi)部形成孔洞的機(jī)率,進(jìn)而提高底膠填充制程的良率。
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