[發明專利]反射式偏光擴散膜的結構及制法

無效

• 申請號: 200610098761.0
• 申請日: 2006-07-12
• 公開（公告）號: CN101105540A
• 公開（公告）日: 2008-01-16
• 發明（設計）人: 楊允斌;廖啟文;曾杞良
• 申請（專利權）人: 宣茂科技股份有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 周春發

技術領域

本發明為一種偏光擴散膜的結構及制法，特別是關于一種具有可視角度及聚光亮度分布的反射式偏光擴散膜的結構及制法。

背景技術

傳統偏光片的制作方法為將一透明基板(PVA；PolyVinyl?Alcohol)浸于碘(I₂)/碘化鉀(KI)水溶液中，此時碘離子會擴散滲透入PVA中，再經拉伸作用使附著于PVA上碘離子而隨的有方向性，形成碘離子長鏈。由于碘離子有很好的起偏性，可以吸收平行于排列方向的光束電場分量，只讓垂直方向的光束電場分量通過，運用此原理即可制造偏光膜。但由于此種制作方式是利用碘離子的吸收特性，故當光線振動軸向垂直于拉伸方向時，即被吸收而使光線無法回到原始光通路運用，使亮度大幅衰減。

另外，3M的DBEF-D的反射型偏光擴散膜片的原理利用近千層雙折射率高分子薄膜貼合后所產生的偏折現象，使一軸向的偏振光得以通過，另一軸向的偏振光得以折射回原始光通路回收利用，然此種做法須以近千層的薄膜形成，其制造程序復雜，且成本極為昂貴。

發明內容

本發明的主要目的在于藉由遮蔽反射層的溝槽及電磁波特性，使電場振動方向垂直于遮蔽反射層軸向的光線，會因具有高反射聚合物的遮蔽反射層所誘生的反向電場所阻擋，而使光線振動方向平行于遮蔽反射層軸向的光線可以通過，讓其產生偏振光線。

本發明的另一目的是藉由遮蔽反射層所產生的反射，將被阻擋的光線反射回原始光通路回收使用，使用其可大幅提升產品亮度。

為達到上述目的的反射式偏光擴散膜的制法包括將一遮蔽反射層以一高反射化合物奈米粉末混入一聚合物，形成一高反射聚合物，將該高反射化合聚合物以薄膜涂布方式于一基板的一側表面形成一遮蔽反射層，利用一模具于該遮蔽反射層上形成多數個溝槽，及于該遮蔽反射層上形成一擴散層。其中該模具上是以蝕刻或雷射方式制作，且該模具具有一奈米結構，并以滾壓或沖壓方式于該遮蔽反射層上形成多數個溝槽，再經紫外光(UV)照射予以固化完成。另外，于該遮蔽反射層上以涂布方式形成一擴散層，再以高溫烘烤方式予以固化。

本發明反射式偏光擴散膜的結構是包含一基板及于該基板一側面上形成一高反射聚合物遮蔽反射層，于該遮蔽反射層上形成多數個溝槽，然后于該遮蔽反射層上形成一擴散層。其中該遮蔽反射層具有奈米級的溝槽，該溝槽深至該基板，可供光線通過。

附圖說明

圖1為本發明實施例反射式偏光擴散膜的結構示意圖。

【圖號說明】

11???基板

11a??基板上表面

11b??基板上表面

12???遮蔽反射層

12a??溝槽

13????擴散層

13a??微粒子

13b??光學材料

14???擴散層

14a??微粒子

14b??光學材料

d????間隙

具體實施方式

為了讓本發明的上述的目的、功能特征、和優點能更明確被了解，下文將本發明以較佳的實例，并配合所附圖式，作詳細說明如下；

請參照圖1為本發明實施例的反射式偏光擴散膜的結構示意圖，該反射式偏光擴散膜的結構1包括有一透光的基板11，該基板11分別具有一上表面11a及一下表面11b。在該基板11的上表面11a上以涂布方式形成一高反射聚合物遮蔽反射層12。于該高反射聚合物遮蔽反射層12，以具有一奈米微結構的模具(圖中未示)形成一溝槽12a，該溝槽12a深度較佳地穿透至該基板11內，使該溝槽12a在該基板11表面處形成一可透光的間隙d。接著，于該高反射聚合物遮蔽反射層12上形成一擴散層13，并于該基板11的下表面11b形成一擴散層14。該擴散層13包括有多數個微粒子13a及一光學材料13b，而該擴散層14包括多數個微粒子14a及一光學材料14b，其中該光學材料13b、14b包括可為聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、環氧樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚乳酸等光學塑料材料。

該反射式偏光擴散膜1并不限定特定一面為入光面，其兩面均可作為入光面。當光線通過該間隙d時，振動方向平行于該間隙d的光線則可以通過，震動方向垂直及非平行于該間隙d的光線，則因該高反射聚合物遮蔽層12的電場誘導，反射回原光路回收使用。

本發明反射式偏光擴散膜的制法，其實施例如下：