[發明專利]用于光刻應用的專用測量臺有效
| 申請號： | 200610071179.5 | 申請日： | 2006-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN1841207A | 公開（公告）日： | 2006-10-04 |
| 發明（設計）人： | M·A·范德科克霍夫;H·P·C·沃斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 劉紅;張志醒 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光刻 應用 專用 測量 | ||
【說明書】：
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