[發明專利]用于光刻應用的專用測量臺有效
| 申請號： | 200610071179.5 | 申請日： | 2006-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN1841207A | 公開（公告）日： | 2006-10-04 |
| 發明（設計）人： | M·A·范德科克霍夫;H·P·C·沃斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 劉紅;張志醒 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光刻 應用 專用 測量 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司，未經ASML荷蘭有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610071179.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：液晶顯示裝置的驅動電路及其驅動方法
- 下一篇：機器人構件
