[發(fā)明專利]用于石英光掩模等離子體蝕刻的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610067442.3 | 申請日： | 2006-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN101046634A | 公開（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 斯科特·艾倫·安德森;艾杰伊·庫馬 | 申請（專利權(quán)）人： | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/26;G03F1/14;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 徐金國;梁揮 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 石英 光掩模 等離子體 蝕刻 方法 | ||
【說明書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱鳎?，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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