[發明專利]用于石英光掩模等離子體蝕刻的方法無效
| 申請號： | 200610067442.3 | 申請日： | 2006-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN101046634A | 公開（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發明（設計）人： | 斯科特·艾倫·安德森;艾杰伊·庫馬 | 申請（專利權）人： | 應用材料公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/26;G03F1/14;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人： | 徐金國;梁揮 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 石英 光掩模 等離子體 蝕刻 方法 | ||
【權利要求書】：
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