[發(fā)明專利]形成低溫生長緩沖層的方法、發(fā)光元件及其制造方法和發(fā)光器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610067005.1 | 申請日： | 2006-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN1841800A | 公開（公告）日： | 2006-10-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 牛田泰久;筱田大輔;山崎大輔;平田宏治;池本由平;柴田直樹;青木和夫;恩卡納西翁·安東尼亞·加西亞·比略拉;島村清史 | 申請（專利權(quán)）人： | 豐田合成株式會社;株式會社光波 |
| 主分類號： | H01L33/00 | 分類號： | H01L33/00;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 顧晉偉;劉繼富 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 形成 低溫 生長 緩沖 方法 發(fā)光 元件 及其 制造 器件 | ||
【權(quán)利要求書】：
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