[發明專利]星型雙回轉磁控濺射導電玻璃鍍膜生產線及生產工藝

有效

• 申請號: 200610062311.6
• 申請日: 2006-08-25
• 公開（公告）號: CN101130452A
• 公開（公告）日: 2008-02-27
• 發明（設計）人: 許生;徐升東;莊炳河;曹志剛;高文波
• 申請（專利權）人: 深圳豪威真空光電子股份有限公司
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23;C23C14/35
• 代理公司: 深圳創友專利商標代理有限公司
• 代理人: 陳俊斌

【技術領域】

本發明涉及一種ITO導電玻璃鍍膜生產線及相關生產工藝。

【背景技術】

磁控濺射鍍膜技術經過幾十年的發展已經進入到相對成熟的階段，它具有濺射溫升低、濺射速率高、膜層致密以及附著力好等優點而備受青睞。特別是在一些大型鍍膜生產線上的成功應用進一步奠定了它在鍍膜領域重要地位。隨著平板顯示器產業的飛速發展，在2004年中國LCD顯示器的產量首次超過了CRT，在該領域是一種大面積的鍍膜技術，還不只是被鍍工件的鍍膜面積大到幾平方米，而是考慮一套鍍膜設備整個的生產能力和質量的平穩。它所面臨的主要問題有：①薄膜均勻性的控制，包括薄膜厚度、薄膜成分與薄膜特性的均勻性；②連續生產的條件下，薄膜制備的可重復性與薄膜特性的一致性；③如何控制和減少薄膜的區缺陷；④生產節拍的提高使得產能增加從而可以一定程度上降低成本。同樣隨著低輻射率膜(LOW-E)、建筑玻璃、自清潔玻璃、薄膜太陽電池等日益的發展普及，大面積的磁控濺射鍍膜的應用領域正在不斷的擴大。縱觀國內的大面積磁控濺射鍍膜生產線的結構已經比較落后，特別是ITO導電玻璃生產線的設計還停留在以前較傳統的設計方式。

以下是現有技術中的幾種典型的ITO導電玻璃生產線：

1、采用直線形式(IN-LINE型)：這種結構的磁控濺射生產線應用很廣泛，有單面和雙面鍍膜之分。其中單面主要考慮到結構布置簡單，基片載體運行可靠性高，加熱均勻性有所改善；雙面主要考慮到增加產能節約生產成本。這種結構其上下片的凈化車間分別在生產線的兩端，基片載體回送裝置在真空室外面沿轉用的軌道回架，其生產線結構請參閱附圖1。

2、國內的生產線結構雖然沒有大的改觀，但在吸收了一些國外的先進設計思想以后也進行了改進，采用了旋轉真空室結構，即單面回轉式磁控濺射鍍膜生產線。其真空室做成一室兩工作點形式，即用隔板做成兩個獨立的空間，通過旋轉室的回轉來完成連續的鍍膜過程。它的上下片室共用一個凈化間，通過凈化間內的回轉裝置實現基片載體的循環運行。也就是說整個的鍍膜過程基片載體不用暴露到生產車間，而只在真空室體和百級凈化間空間內運行。這種結構設計的思想其實就是將單面IN-LINE線進行“對折”然后增加旋轉真空室來起連接過渡。因此較單面IN-LINE線而言有具有如下的優勢：①整個生產線長度大大減少，而且減少一個千級凈化間其占地面積有大的降低；②基片載體回送裝置沒有暴露在生產車間不會造成基片載體的污染有利于鍍膜質量的改善。其生產線結構請參閱附圖2。

3、在國外有一種“星”型的結構設計，同樣采用單室雙工作點的室和旋轉真空室。它將幾個真空室在不同方向上與旋轉室連接形成一個“星”型的結構，其分支可視不同的工藝要求進行增減，每個分支的室數量也可增減。室都采用模塊化設計以方便安裝和重新組合。這種結構同樣具有占地面積小的優點，而且靈活性又有了很大的提高。還可適用于鍍制別的產品，比如多層膜的沉積。其生產線結構請參閱附圖3。

上述現有技術中，存在一些問題及缺陷。采用單面或雙面IN-LINE結構主要有以下的缺點：①生產線較長占地面積大；②上下片凈化車間分離在兩端，進一步增加占地面積和建設成本；③基片載體回送裝置暴露在生產車間會受到污染，不利于沉膜質量改善；④生產線的安裝不方便，由于太長(國內普遍采用9真空室)安裝的精度不容易保證，基片載體運行易受阻。

采用單面環式結構的主要缺點是：①結構靈活性差，加工產品的范圍不廣；②生產節拍不高，產能低從而增加了成本。

采用單回轉“星”型結構同樣存在產能不高的缺陷，而且分支不能太多，所以鍍膜室的數量不會太多，靈活性受到一定的限制。

【發明內容】

本發明的目的就是為了克服以上現有技術的不足，提供一種星型雙回轉磁控濺射ITO導電玻璃鍍膜生產線及生產工藝，可以增加設備的靈活性，提高產能，拓寬了應用的產品范圍。

為實現上述目的，本發明提出星型雙回轉磁控濺射ITO導電玻璃鍍膜生產線，包括A面進出片室、B面進出片室、A面旋轉真空室、B面旋轉真空室、A面第一濺射工作室、B面第一濺射工作室、中間連接室、A面旋轉回架裝置、B面旋轉回架裝置；所述A面進出片室、A面第一濺射工作室分別與所述A面旋轉真空室相銜接；所述B面進出片室、B面第一濺射工作室分別與所述B面旋轉真空室相銜接；所述中間連接室二端分別與所述A面旋轉真空室、B面旋轉真空室相銜接。

上述的生產線，還包括A面第二濺射工作室，與所述A面旋轉真空室相銜接。還包括B面第二濺射工作室，與所述B面旋轉真空室相銜接。