[發明專利]薄膜晶體管基板及降低金屬導線之間干擾的方法

有效

• 申請號: 200610060302.3
• 申請日: 2006-04-14
• 公開（公告）號: CN101055878A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發明（設計）人: 顏碩廷
• 申請（專利權）人: 群康科技（深圳）有限公司;群創光電股份有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L23/522;H01L21/84;H01L21/768
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種薄膜晶體管基板，其包括一絕緣基底、多條柵極線及多條與該柵極線相交的數據線，其特征在于：其進一步包括一抗干擾導線，該抗干擾導線絕緣設置于該柵極線與該數據線之間，且其相對于該柵極線設置，該抗干擾導線的電壓信號與該柵極線的電壓信號反相，該抗干擾線設置于該柵極線的正上方。

2.如權利要求1所述的薄膜晶體管基板，其特征在于：該抗干擾導線與該柵極線的距離小于該抗干擾導線與該數據線的距離。

3.如權利要求1所述的薄膜晶體管基板，其特征在于：該抗干擾導線的電壓信號的絕對值小于該柵極線的電壓信號的絕對值。

4.如權利要求1所述的薄膜晶體管基板，其特征在于：該抗干擾導線的寬度小于該柵極線的寬度。

5.一種降低金屬導線之間干擾的方法，其步驟包括：

提供相鄰的一第一金屬線及一第二金屬線；

設置一抗干擾導線于該第一金屬線與第二金屬線之間，且該抗干擾導線的電壓信號與該第一金屬線的電壓信號反相，該抗干擾導線與該第一金屬線的距離小于該抗干擾導線與該第二金屬線的距離。

6.如權利要求5所述的金屬導線之間干擾的方法，其特征在于：該抗干擾導線電壓信號的絕對值小于該第一金屬線電壓信號的絕對值。

7.如權利要求5所述的降低金屬導線之間干擾的方法，其特征在于：該抗干擾導線的寬度小于該第一金屬線的寬度。