[發明專利]一種光致抗蝕膜的退除劑無效
| 申請號: | 200610031646.1 | 申請日: | 2006-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN101071278A | 公開(公告)日: | 2007-11-14 |
| 發明(設計)人: | 饒桂春;湯明坤;羅新輝;譚麗霞 | 申請(專利權)人: | 湖南省科學技術研究開發院 |
| 主分類號: | G03F7/42 | 分類號: | G03F7/42 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 | 代理人: | 馬強 |
| 地址: | 410004*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光致抗蝕膜 | ||
1、一種光致抗蝕膜的退除劑,其特征是,它的重量百分比組成是:
復合有機堿??????10%-30%;
聚醚類活性劑????1%-5%;
碎膜劑??????????1%-5%;
銅緩蝕劑????????0.1%-1%;
去離子水????????60%-70%;
其中,所述復合有機堿是具有化學式X-R-NH2的有機胺中的至少兩種,X為H、NH2或OH,R為亞烷基;
所述聚醚類活性劑為環氧乙烷與環氧乙烷的嵌段共聚物或無機共聚物中的至少一種;
所述碎膜劑為長碳鏈的脂肪胺;
所述銅緩蝕劑為苯并三氮唑及其衍生物的中的至少一種。
2、根據權利要求1所述光致抗蝕膜的退除劑,其特征是,在所述組分中,加入重量百分比為1%-10%的無機堿,所述無機堿為NaOH、KOH、NH3.H2O中的至少一種。
3、根據權利要求1所述光致抗蝕膜的退除劑,其特征是,在所述化學式X-R-NH2中,R為1-4個碳原子的亞烷基。
4、根據權利要求1所述光致抗蝕膜的退除劑,其特征是,所述聚醚類活性劑為重均分子量在1000以下的環氧乙烷與環氧乙烷的嵌段共聚物或無機共聚物中的至少一種。
5、根據權利要求1所述光致抗蝕膜的退除劑,其特征是,優選地,??所述碎膜劑為碳原子在8-12的脂肪胺中的至少一種。
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