[發明專利]光刻機曝光成像裝置

有效

• 申請號: 200610030637.0
• 申請日: 2006-08-31
• 公開（公告）號: CN101135857A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 伍強
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/00
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧繼光

技術領域

本發明涉及一種成像裝置，尤其是一種光刻機曝光成像裝置。

背景技術

現有的用于硅片曝光的光刻機透鏡成像裝置由一組共軸或者非共軸的透鏡組成，其目的是為了將掩膜板上的圖形用光學的方法投影成像到帶有光敏感的記錄介質(如光刻膠)的硅片上。這種透鏡除了上述功能以外，沒有任何的其他功能。這種成像裝置的使用和標定需要通過在成像平臺上用試驗硅片曝光，或者在平臺上設置光電像探測器對成像圖像進行記錄來完成。這兩種方法都需要光刻機停止生產，浪費了生產時間。而且由于對光刻機的定期監控不可能及時全面的反映出在平時工作中出現的問題，如果在平時的操作中出現了偏差或者異常，將會導致由于無法及時反饋而造成的返工。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種光刻機曝光成像裝置，能夠在不停止光刻機工作的前提下，對光刻機成像效果進行采集，從而大大簡化光刻機圖像采集測量的步驟，提高了生產效率。

為解決上述技術問題，本發明光刻機曝光成像裝置的技術方案是，在光刻機曝光的光路上設置有下分束板，所述下分束板與光路呈45°夾角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一側；在經過所述下分束板反射后與光刻光路相垂直的光路上設置有下反射鏡，所述下反射鏡的法線與所述下分束板的法線相垂直，且所述下反射鏡的反射面朝向所述下分束板一側；在經過所述下反射鏡反射之后的光路上設置有圖像探測器。

作為對本發明光刻機曝光成像裝置的進一步改進是，在光刻機曝光的光路上設置有上分束板，所述上分束板與光路呈45°夾角，且所述上分束板的反射面朝向掩膜板一側；在經過所述上分束板反射的光路上設置有上反射鏡，所述上反射鏡的法線與所述上分束板的法線相垂直，且所述上反射鏡的反射面朝向所述上分束板一側；在經過所述上反射鏡反射之后的光路上設置有圖像探測器。

本發明光刻機曝光成像裝置，通過在成像光路上設置下分束板、下反射鏡和上分束板、上反射鏡以及圖像探測器，能夠方便的對光刻機的成像進行采集，大大的簡化了圖像采集測量的步驟，提高了生產效率。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發明作詳細的描述：

附圖為本發明光刻機曝光成像裝置的結構示意圖。

圖中附圖標記為：1.主透鏡；2.掩膜板及掩膜板平臺；3.待光刻的硅片及硅片平臺；4.下分束板；5.下反射鏡；6.圖像探測器；7.下快門；8.上分束板；9.上反射鏡；10.上快門；11.投影透鏡；12.輔助照明光源。

具體實施方式

本發明光刻機曝光成像裝置，其結構如附圖所示。

在光刻機曝光的光路上設置有下分束板4，所述下分束板4與光路呈45°夾角，且所述下分束板4的反射面朝向待光刻的硅片及硅片平臺3的一側；在經過所述下分束板4反射后與光刻光路相垂直的光路上設置有下反射鏡5，所述下反射鏡5的法線與所述下分束板4的法線相平行，且所述下反射鏡5的反射面朝向所述下分束板4一側；在經過所述下反射鏡5反射之后的光路上設置有圖像探測器。

在所述下分束板4與下反射鏡5之間的光路上設置有下快門7。

所述下分束板4設置在光刻機的兩個主透鏡1之間。

在光刻機曝光的光路上還設置有上分束板8，所述上分束板8與光路呈45°夾角，且所述上分束板8的反射面朝向掩膜板2一側；在經過所述上分束板8反射的光路上設置有上反射鏡9，所述上反射鏡9的法線與所述上分束板8的法線相垂直，且所述上反射鏡9的反射面朝向所述上分束板8一側；在經過所述上反射鏡9反射之后的光路上設置有圖像探測器。

在所述上分束板8與上反射鏡9之間的光路上設置有上快門10。

所述上分束板8設置在光刻機的兩個主透鏡1之間。

所述上反射鏡9為可透射光的反射鏡，且經過所述上反射鏡9反射的光路與經過所述下反射鏡5反射的光路重合，所述在經過下反射鏡5反射之后的光路上設置的圖像探測器與所述在經過上反射鏡9反射之后的光路上設置的圖像探測器為同一圖像探測器6。

與所述下分束板4相比，所述上分束板8的位置更靠近掩膜板。

所述光路在進入圖像探測器之前的位置上設置有投影透鏡11。

所述下反射鏡5為可透射光的反射鏡，在由所述下分束板4至下反射鏡5的光路的延長線上設置有方向朝向所述下分束板的輔助照明光源12。

所述圖象探測器安裝在一個與掩膜板同步運動的平臺上。

所述圖像探測器所安裝的平臺為放置掩膜板的平臺。