[發明專利]光刻機曝光成像裝置

有效

• 申請號: 200610030637.0
• 申請日: 2006-08-31
• 公開（公告）號: CN101135857A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 伍強
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/00
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧繼光

1.一種光刻機曝光成像裝置，其特征在于，在光刻機曝光的光路上設置有下分束板，所述下分束板與光路呈45°夾角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一側；在經過所述下分束板反射后與光刻光路相垂直的光路上設置有下反射鏡，所述下反射鏡的法線與所述下分束板的法線相平行，且所述下反射鏡的反射面朝向所述下分束板一側；在經過所述下反射鏡反射之后的光路上設置有圖像探測器。

2.根據權利要求1所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，在所述下分束板與下反射鏡之間的光路上設置有快門。

3.根據權利要求1所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述下分束板設置在光刻機的兩個主透鏡之間。

4.根據權利要求1所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，在光刻機曝光的光路上設置有上分束板，所述上分束板與光路呈45°夾角，且所述上分束板的反射面朝向掩膜板一側；在經過所述上分束板反射的光路上設置有上反射鏡，所述上反射鏡的法線與所述上分束板的法線相垂直，且所述上反射鏡的反射面朝向所述上分束板一側；在經過所述上反射鏡反射之后的光路上設置有圖像探測器。

5.根據權利要求4所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，在所述上分束板與上反射鏡之間的光路上設置有快門。

6.根據權利要求4所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述上分束板設置在光刻機的兩個主透鏡之間。

7.根據權利要求4所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述上反射鏡為可透射光的反射鏡，且經過所述上反射鏡反射的光路與經過所述下反射鏡反射的光路重合，所述在經過下反射鏡反射之后的光路上設置的圖像探測器與所述在經過上反射鏡反射之后的光路上設置的圖像探測器為同一圖像探測器。

8.根據權利要求6或7所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，與所述下分束板相比，所述上分束板的位置更靠近掩膜板。

9.根據權利要求1或4或7所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述光路在進入圖像探測器之前的位置上設置有投影透鏡。

10.根據權利要求1或4或7所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述下反射鏡為可透射光的反射鏡，在由所述下分束板至下反射鏡的光路的延長線上設置有方向朝向所述下分束板的輔助照明光源。

11.根據權利要求1或4或7所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述圖象探測器安裝在一個與掩膜板同步運動的平臺上。

12.根據權利要求11所述的光刻機曝光成像裝置，其特征在于，所述圖像探測器所安裝的平臺為放置掩膜板的平臺。