[發明專利]半導體器件測試圖形庫的生成方法有效
| 申請號： | 200610030310.3 | 申請日： | 2006-08-23 |
| 公開（公告）號： | CN101131634A | 公開（公告）日： | 2008-02-27 |
| 發明（設計）人： | 金鋒;張興洲;常欣 | 申請（專利權）人： | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號： | G06F9/44 | 分類號： | G06F9/44;G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人： | 顧繼光 |
| 地址： | 201206上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 半導體器件 測試 圖形 生成 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種半導體器件圖形測試庫的生成方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)使用計算機編程語言對點進行描述，以實現點在二維坐標系中的x坐標值和y坐標值的存儲；
(2)使用計算機編程語言對多邊形進行描述，以實現多邊形由多個點確定；
(3)使用計算機編程語言對半導體基本單元的圖形進行描述，以實現半導體器件由多個多邊形組成；
(4)將上述描述應用到具體的半導體器件的測試圖形中，包括以下步驟：
a、選取某一點為原點，建立二維平面坐標系；
b、確定某一半導體器件測試圖形中各點的坐標；
c、對半導體器件進行描述，其中至少定義有該半導體器件所包括的各多邊形和特征參數；
d、構造出半導體器件的測試圖形庫。
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