[發明專利]氮氣保護罩

有效

• 申請號: 200610029245.2
• 申請日: 2006-07-21
• 公開（公告）號: CN101110345A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: 嚴瑋;程望陽;任堅
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧繼光

技術領域

本發明涉及一種半導體制造行業使用的設備，特別是一種氮氣保護裝置。

背景技術

氮氣保護罩(N2?shield)是半導體制造過程中的一種常用設備，其結構一般如圖1和圖2所示，包括蓋板3、多根排氣管2和多根進氣管1，蓋板3覆蓋在排氣管2上，進氣管1穿入排氣管2中并和排氣管2通過螺絲4連接，排氣管2上開有密集的小孔。工作時，大量氮氣從進氣管1進入排氣管2，然后從排氣管2上的小孔中排出形成氣簾。工作氣體，如SiH4和O2，可以在氣簾和蓋板包圍的空間中進行工作，氣簾可以起到防止粉塵生成，減少顆粒干擾的作用。

但是，目前的氮氣保護罩很容易在圖1中圓圈A內的區域形成粉塵，會對產品帶來潛在的顆粒危害；如果改變氮氣流量，又會導致氣流分布變化，影響工藝參數。這種現象產生的原因主要是，進氣管1和排氣管2之間緊密接觸，如圖2所示，沒有空間讓氮氣自由通過A區域，進氣管1和排氣管2接觸處因氮氣不能有效流動，以至局部氣簾效果降低，使得粉塵容易堆積。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種氮氣保護罩，能避免粉塵在進氣管和排氣管接觸區域堆積。

為解決上述技術問題，本發明氮氣保護罩包括蓋板、被蓋板覆蓋的多個排氣管和與分別與排氣管連接的多個進氣管，排氣管和進氣管接觸部位的管壁之間有等于2毫米或大于2毫米的間隙。

排氣管和進氣管通過焊接方式連接。

本發明由于在氮氣保護罩的進氣管和排氣管之間保留了間隙，使得進氣管和排氣管接觸處氮氣能自由流動，可減少接觸處的粉塵堆積，減少粉塵對產品的危害，減小氮氣保護罩保養次數，增加其使用時間。

附圖說明

圖1是氮氣保護罩的外形示意圖；

圖2是現有技術中氮氣保護罩進氣管和排氣管接觸部分剖面示意圖；

圖3是本發明氮氣保護罩進氣管和排氣管接觸部分剖面示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步詳細的說明。

本發明氮氣保護罩包括蓋板3、被蓋板3覆蓋的多個排氣管2和與分別與排氣管2連接的多個進氣管1，排氣管2和進氣管1接觸部位的管壁之間有等于2毫米或大于2毫米的間隙，如圖3所示；排氣管2和進氣管1通過焊接方式連接。在本發明較優的實施例中，排氣管2和進氣管1管壁的軸向間距H等于4毫米或大于4毫米，排氣管2和進氣管1管壁的徑向間距D等于3毫米或大于3毫米。

本發明由于在氮氣保護罩的進氣管和排氣管之間保留了間隙，使得進氣管和排氣管接觸處氮氣能自由流動，可減少接觸處的粉塵堆積，減少粉塵對產品的危害，減小氮氣保護罩保養次數，增加其使用時間。