[發明專利]磁控濺射卷繞鍍膜機

有效

• 申請號: 200610022288.8
• 申請日: 2006-11-21
• 公開（公告）號: CN101191195A
• 公開（公告）日: 2008-06-04
• 發明（設計）人: 甘國工
• 申請（專利權）人: 甘國工
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/02;C23C14/12
• 代理公司: 成都立信專利事務所有限公司
• 代理人: 江曉萍

技術領域：

本發明涉及一種磁控濺射卷繞鍍膜機，特別涉及的是一種具有多個冷卻輥及多個鍍膜真空室的磁控濺射卷繞鍍膜機。

背景技術：

在塑料薄膜上鍍功能膜多采用卷繞鍍膜方式，而要在塑料薄膜上鍍功能較好的功能膜如在聚酯膜上鍍功能較好的低反射膜(Low-E膜)，至少要鍍雙銀結構膜也即要鍍9層以上膜層，若鍍可見光透過率大于85％，電阻小于1Ω/□的電磁屏蔽膜(EMI膜)，則要鍍四銀結構即17層膜層，鍍每一層膜都需要配置一套陰極及靶芯，而傳統的卷繞鍍膜機采用單輥整體式鍍膜，既在一個鍍膜真空室內安放一個冷棍、2-3個陰極及靶芯及卷材放卷機構、收卷機構，由于結構限制原因，不能在圓周排布多至4組以上的陰極，不能適應一個鍍程就可以鍍4層以上不同功能或材料的膜層，既使在一個鍍膜真空室內安放兩個冷棍、4-6個陰極及靶芯，也排布不下17個陰極及靶位，達不到鍍完17層膜的目的，若按傳統方式設計，至少要3個冷卻輥，需太大的真空箱且陰極及靶芯全在真空箱內，通水、通電的管線多，產生的氣體放氣量太大，不利真空泵經濟的運行，若要將此種鍍膜機的鍍膜速度提高到3米/分以上，一次通過即能成為合格膜的陰極需求數將超過20多個，也必須要考慮多個冷卻輥的結構設計及方便檢修，節約真空泵功率的多個真空室的設計，因此，傳統的卷繞鍍機不能適應一個鍍程就可以鍍4層以上不同功能或材料的膜層，生產不出膜層多、功能較好的功能性塑料薄膜。

發明內容：

本發明的目的是為了克服以上不足，提供一種產量高、設備成本低、能適應一個鍍程就可以鍍4層以上不同功能或材料的膜層的磁控濺射卷繞鍍膜機。

本發明的目的是這樣來實現的：

本發明磁控濺射卷繞鍍膜機，至少包括有卷材放卷機構和/或收卷機構的真空室，至少一個鍍膜真空室，連接收卷、放卷真空室及鍍膜真空室的真空連接箱，其特征在于有至少一個鍍膜真空室中有真空鍍膜箱體，位于真空鍍膜箱體內的冷卻輥，以冷卻輥為中心周圍布置有至少3組陰極和高低壓真空泵及管道組成的真空抽氣系統，磁控濺射的陰極的靶及靶芯設置在每個真空鍍膜箱體中，陰極通過陰極法蘭連接座以法蘭連接形式安裝在真空鍍膜箱體壁上，氣體、電源、冷卻水連接管線置于真空鍍膜箱體壁外，每組陰極之間有擋氣隔離板將真空鍍膜箱體殼體與冷卻輥之間的空隙隔離形成抽氣通道。鍍膜真空室的數量可根據鍍層多少來隨意安排，這樣每一個鍍膜真空室中只安排一個冷棍和若干個陰極及靶芯，而把卷材放卷機構、收卷機構及其真空室和衡張力控制系統全部放在鍍膜真空室外，大大減少了鍍膜真空室體積，減輕了鍍膜真空室的設計和制造難度，又可一個鍍程就可以鍍4層以上不同功能或材料的膜，當鍍膜工藝的需要少用鍍膜真空室時，可以關閉單獨的不用的鍍膜真空室，減少抽氣真空泵的運行，每個鍍膜真空室安置的單獨組成的真空鍍膜箱體中，設置有磁控濺射的陰極及靶芯，也可根據鍍膜工藝的需要開啟或關閉，每一組陰極及靶芯之間有擋氣隔離板，使兩組陰極之間的竄氣率低于20％甚至于5％，同時，抽真空系統利用隔離板形成的通道和/或每組陰極之間設有兩塊擋氣隔離板之間形成的通道抽氣，沿冷卻輥圓周分布安裝在鍍膜真空室殼體上的陰極及靶芯至少為3組，特別是陰極在冷卻輥圓周分布并安裝在與冷卻輥距離最佳的最短的真空箱體殼體外面，可以節約真空箱腔體體積。

上述的鍍膜真空室為二個。增加鍍膜真空室，可增加鍍膜層數。

上述的鍍膜真空室為三個。要增加鍍膜層數，還可繼續排列多個鍍膜真空室。

上述的卷材放卷機構與卷材收卷機構同置于一個真空室內。將卷材放卷機構與卷材收卷機構同置于一個真空室內，可方便在一個真空室內同時完成對卷材的收取和安放，減少鍍膜真空室內真空度損耗，減少抽氣真空泵的運行。

上述的卷材放卷機構與卷材收卷機構分別設置在卷繞鍍膜機兩端獨立設立的真空室內。

上述的兩組陰極之間設立的擋氣隔離板由兩塊隔離板組成抽氣通道，抽氣泵及抽氣管道放置在真空鍍膜箱體兩端和/或真空鍍膜箱體之上。原有的技術一般兩陰極之間只設一板隔板，在鍍膜真空室兩端頭設抽氣管道及泵，但膜寬在1200mm以上時，只在兩端頭抽氣，難以保證鍍膜區全寬度上真空度，難保鍍膜均勻度，所以可在兩組陰極及靶芯之間設立兩塊隔離板組成抽氣通道，在兩端頭抽氣同時，還可在真空鍍膜箱體之上設置抽氣泵及抽氣管道，利用兩塊隔板形成的通道抽氣，使兩個陰極之間的加入的工藝氣體不相竄，這種結構可以將冷卻輥加長到2.5m長，生產寬幅薄膜，且薄膜鍍層均勻性很好。