[發(fā)明專利]一種在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610015533.2
• 申請日: 2006-08-31
• 公開（公告）號: CN101135042A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈志剛;俞曉正;徐政;楊春元;李勇;裴小科;范洪濤
• 申請（專利權(quán)）人: 國家納米技術(shù)與工程研究院;北京航空航天大學(xué);深圳微納超細(xì)材料有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/02;B08B3/04
• 代理公司: 國嘉律師事務(wù)所
• 代理人: 高美嶺

1.一種在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，采用微顆粒脈沖濺射真空鍍膜設(shè)備制備，其特征在于：以空心微珠顆粒材料作基底，以金屬鈦作濺射靶材，通過向真空室內(nèi)同時充入氧氣和氬氣并采用脈沖電源在真空室內(nèi)輝光放電，使金屬鈦與氧氣發(fā)生反應(yīng)，在空心微珠表面生成光催化二氧化鈦薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，其特征在于具體的工藝條件是：在真空室內(nèi)的真空度達(dá)到1.0×10^-3～4.0×10^-3Pa時，向真空室內(nèi)同時充入氧氣和氬氣，設(shè)定真空室內(nèi)的工作壓力為0.3～5Pa，其中氧氣分壓為0.1～1Pa；脈沖電源頻率為10～30KHz；濺射功率為400～1000w；基底溫度為200～450℃；濺射時間為120～600分鐘。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，其特征在于：空心微珠的粒徑范圍為1～100μm；材料密度小于1g/cm³。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，其特征在于：為粉煤灰空心微珠或玻璃空心微珠。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，其特征在于：濺射靶材為直徑100mm、厚度3mm、純度99.9％、表面平整光潔且內(nèi)部無縮孔的金屬鈦。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，其特征在于：對空心微珠表面進(jìn)行預(yù)凈化處理，處理步驟為1)將空心微珠先用50℃清洗液清洗4次，每次清洗時間5分鐘，然后用去離子水清洗兩次；2)在室溫下用弱堿溶液浸泡15分鐘，然后用去離子水清洗兩次；3)在室溫下用弱酸溶液浸泡15分鐘，然后用去離子水清洗兩次；4)將處理后的空心微珠放入105℃的烘箱中烘4小時后取出即可。