[發(fā)明專利]等離子處理高阻隔膜工藝

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610014376.3
• 申請(qǐng)日: 2006-06-20
• 公開（公告）號(hào): CN101092684A
• 公開（公告）日: 2007-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田守文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津市大陽工貿(mào)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/00
• 分類號(hào): C23C14/00;C23C14/02;C23C14/46;C23C14/10;C23C14/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及等離子處理包裝阻隔膜工藝。

背景技術(shù)

食品工業(yè)的高速發(fā)展對(duì)包裝物阻氧、阻水汽、阻光的性能提出了更高要求，高阻隔膜的研究在近幾年才逐漸被加以重視。目前國內(nèi)高阻隔膜多采用PET/PE、PET/普通PET鍍鋁膜/PE、OPP/鋁箔/PE通過干式復(fù)合或流延復(fù)合組合成一個(gè)多層膜，以達(dá)到高阻隔目的，由于采用多層復(fù)合，存在工序復(fù)雜成本高、生產(chǎn)過程污染大的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種成本低、工藝簡(jiǎn)單、無污染、效率高的高阻隔膜生產(chǎn)工藝。

本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，可用PET、OPP、鋁箔、PE薄膜作基材，第一步薄膜卷材上料并施加張力，第二步真空室抽真空，第三步設(shè)定并調(diào)整兩種等離子惰性氣體氣源，第四步薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積鋁或二氧化硅并收卷即可。

本發(fā)明只是將薄膜卷材上料并施加張力，真空室抽真空，設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，薄膜等離子沉積并收卷即可完成，具有生產(chǎn)成本低、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、產(chǎn)品質(zhì)量可靠的優(yōu)點(diǎn)，可替代進(jìn)口，節(jié)省大量外匯，經(jīng)濟(jì)效益也很顯著。

附圖說明

本發(fā)明無附圖

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)施加張力，第二步鍍膜機(jī)真空室抽真空，第三步鍍膜機(jī)設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，第四步薄膜在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積一層鋁并收卷即可。

實(shí)施例2，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)施加張力，第二步鍍膜機(jī)真空室抽真空，第三步鍍膜機(jī)設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，第四步薄膜在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積一層二氧化硅并收卷即可。

實(shí)施例3，用PE作基材。第一步薄膜卷材上料并在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)施加張力，第二步鍍膜機(jī)真空室抽真空，第三步鍍膜機(jī)設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，第四步薄膜在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積一層二氧化硅并收卷即可。實(shí)施例1，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在鍍膜機(jī)內(nèi)施加張力，第二步鍍膜機(jī)真空室抽真空，第三步鍍膜機(jī)設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，第四步薄膜在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積一層鋁并收卷即可。

實(shí)施例4，用OPP作基材第一步薄膜卷材上料并在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)施加張力，第二步鍍膜機(jī)真空室抽真空，第三步鍍膜機(jī)設(shè)定并調(diào)整兩種等離子氣源，第四步薄膜在鍍膜機(jī)真空室內(nèi)放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積一層鋁并收卷即可。