[發明專利]等離子處理高阻隔膜工藝無效
| 申請號： | 200610014376.3 | 申請日： | 2006-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN101092684A | 公開（公告）日： | 2007-12-26 |
| 發明（設計）人： | 田守文 | 申請（專利權）人： | 天津市大陽工貿有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/00 | 分類號： | C23C14/00;C23C14/02;C23C14/46;C23C14/10;C23C14/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 301600天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 處理 阻隔 工藝 | ||
【權利要求書】：
1、等離子處理高阻隔膜工藝，其特征在于：可用PET、?OPP、鋁箔、PE薄膜作基材，第一步薄膜卷材上料并施加張力，第二步真空室抽真空，第三步設定并調整兩種等離子惰性氣體氣源，第四步薄膜放卷進行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積鋁或二氧化硅并收卷即可。
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