[發明專利]調節吸氣劑材料的方法

有效

• 申請號: 200580048622.0
• 申請日: 2005-12-16
• 公開（公告）號: CN101128906A
• 公開（公告）日: 2008-02-20
• 發明（設計）人: J·D·特雷梅爾
• 申請（專利權）人: 納幕爾杜邦公司
• 主分類號: H01J19/70
• 分類號: H01J19/70;F04B37/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉冬;韋欣華

1.一種調節吸氣劑材料的方法，所述方法包括用微波輻射加熱吸氣劑材料。

2.權利要求1的方法，其中吸氣劑材料暴露于300℃或更低的溫度。

3.權利要求1的方法，其中吸氣劑材料包括分子篩。

4.權利要求3的方法，其中分子篩包括沸石。

5.權利要求1的方法，其中吸氣劑材料暴露于微波輻射5分鐘或更少。

6.權利要求5的方法，其中吸氣劑材料暴露于微波輻射3分鐘或更少。

7.一種制造電子裝置的方法，所述方法包括用微波輻射加熱吸氣劑材料；和將吸氣劑材料封裝到電子裝置內。

8.權利要求7的方法，其中加熱步驟期間的溫度為300℃或更低。

9.權利要求7的方法，所述方法還包括在封裝吸氣劑材料之前冷卻吸氣劑材料。

10.權利要求7的方法，其中吸氣劑材料包括分子篩。

11.權利要求10的方法，其中分子篩包括沸石。

12.權利要求7的方法，其中吸氣劑材料暴露于微波輻射5分鐘或更少。

13.權利要求12的方法，其中吸氣劑材料暴露于微波輻射3分鐘或更少。

14.權利要求7的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料在襯底上成層。

15.權利要求14的方法，其中吸氣劑材料的厚度小于或等于100μm。

16.權利要求15的方法，其中厚度小于或等于1μm。

17.權利要求7的方法，其中電子裝置包括襯底、陽極層、陰極層和活性層。

18.一種裝配電子裝置的方法，所述方法包括提供包含吸氣劑材料層的襯底；提供陽極層、陰極層和活性層；和使襯底和吸氣劑材料暴露于微波輻射。

19.權利要求18的方法，其中襯底和吸氣劑材料暴露于微波輻射5分鐘或更少。

20.權利要求17的方法，其中襯底和吸氣劑材料暴露于微波輻射3分鐘或更少。

21.權利要求18的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料在襯底上成層。

22.權利要求18的方法，其中吸氣劑材料的厚度小于或等于100μm。

23.權利要求22的方法，其中厚度小于或等于1μm。

24.權利要求18的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料暴露于300℃或更低的溫度。

25.一種電子裝置，所述電子裝置包括襯底、活性層和吸氣劑材料；其中吸氣劑材料已通過微波輻射暴露于300℃或更低的溫度。

26.權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料包括分子篩。

27.權利要求26的電子裝置，其中吸氣劑材料包括沸石。

28.權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料沉積于襯底上。

29.權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料含有占吸氣劑材料重量的0.1％或更少的水。