[發明專利]X射線測量裝置

無效

• 申請號: 200580046148.8
• 申請日: 2005-12-08
• 公開（公告）號: CN101098660A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 馬場理香;植田健
• 申請（專利權）人: 株式會社日立醫藥
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

技術領域

本發明涉及可抑制檢測器的飽和，并得到提高了值的均勻性的良好的三維圖像的X射線測量裝置。

背景技術

具有X射線源與二維X射線檢測器相對而配置在C字形的支柱(以下稱為C臂)的開放的兩端上X射線測量裝置。具有從頂棚吊掛C臂的構造或在地面上支撐C臂的構造。此外，具有X射線源與二維X射線檢測器相對而配置在桶架上的X射線測量裝置。在這些裝置中，通過使C臂或桶架旋轉，可使X射線和檢測器對在被攝體周圍旋轉，同時進行X射線檢測。此外，對由旋轉測量得到的多個測量數據分別實施修正處理，從而得到用于三維重建的一組投影數據，并對得到的一組投影數據使用三維重建算法進行重建處理，從而可得到三維圖像。這些三維測量記載于非專利文獻1中。

非專利文獻1：新醫療，2002年10月，Vol.29，No.10，pp.102-105

在以往的X射線測量裝置中，如果測量厚的被攝體，則透過被攝體到達檢測器的X射線量變少，測量的X射線圖像的畫質低劣。如果采用強化從X射線源照射的X射線量，或縮短X射線源與檢測器的距離等方法，使到達檢測器的X射線量增加，則能夠提高被攝體區域的畫質。但是，另一方面，在不存在被攝體的區域，或者被攝體薄的區域中，到達檢測器的X射線量增大，在X射線量超過檢測界限的檢測元件中，產生飽和現象，無法顯示正確的值。如果為了抑制檢測器的飽和，而在X射線源與被攝體之間設置由金屬等制成的過濾器，則由于過濾器的種類或厚度，入射到被攝體的X射線的能量分布不同。如果使用能量分布不同的X射線圖像進行重建處理，則存在得到的三維圖像不能表示正確的值的問題。

此外，在未設置過濾器的情況或過濾器的種類或厚度一樣的情況下，入射到被攝體的能量分布一樣，但由于被攝體的種類或厚度，在透過被攝體的過程中，X射線的能量分布不同。如果使用能量分布不同的X射線圖像進行重建處理，則存在所得到的三維圖像不能表示正確的值的問題。

此外，從過濾器或被攝體產生的散射X射線入射到檢測器并混雜在數據中。如果使用散射X射線混雜的X射線圖像進行重建處理，則存在得到的三維圖像不能表示正確的值的問題。

發明內容

本發明的目的在于針對這些問題，提供一種可修正三維圖像的值的不均勻性，得到良好的三維圖像的X射線測量裝置。

為了達到上述目的，提供一種X射線測量裝置，其具有：X射線源，其產生向檢查對象照射的X射線；X射線檢測器，其以隔著檢查對象的方式與該X射線源相對配置，并將檢查對象的透過X射線作為測量數據進行檢測；過濾器，其設置在X射線源與檢查對象之間，對X射線的透過量進行調整；保持裝置，其保持X射線源和X射線檢測器；旋轉裝置，其使X射線源及X射線檢測器在檢測對象的周圍旋轉；以及控制處理裝置，其對由X射線檢測器檢測的測量數據進行運算處理，測量數據是X射線檢測器以通過旋轉裝置而旋轉的、且相對于檢查對象的多個角度來進行檢測的；該X射線測量裝置的特征在于，控制處理裝置對測量數據進行對數變換而得到投影數據，并得到與得到的投影數據對應的過濾器的X射線吸收系數，對得到的X射線吸收系數使用規定的變換式來計算過濾器的厚度，并根據計算出的過濾器的厚度得到與得到的投影數據對應的修正系數，將得到的修正系數與投影數據相乘，重建運算乘以了修正系數的投影數據，從而得到三維圖像。

根據本發明，能夠得到消除了X射線的檢測元件的飽和現象、由過濾器或被攝體導致的能量分布的變化、或者從過濾器或被攝體發生的散射X射線所產生的影響的三維圖像。

附圖說明

圖1是表示實施例一的不均勻性修正處理的步驟的流程圖。

圖2是表示在實施例一的不均勻性修正處理中使用的變換表A的圖。

圖3是表示在實施例一的不均勻性修正處理中使用的變換表B的圖。

圖4是以剖面的形式表示適用本發明的X射線測量裝置的一例的側視圖的概念圖。

圖5(A)-(C)是表示將過濾器410沿X射線源401的旋轉面切開的剖面(左側)和立體圖(右側)的三種例子的圖，(A)是整體為同樣厚度的過濾器410的剖面圖和立體圖，(B)是由凹面形成的區域和同樣厚度的區域組合而成的過濾器410的剖面圖和立體圖，(C)是由凹面形成的區域、由凸面形成的區域、和同樣厚度的區域組合而成的過濾器410的剖面圖和立體圖。

圖6(A)-(C)是表示過濾器410的其他形狀的剖面圖及俯視圖，(B)是從X射線的入射方向觀察的俯視圖，(A)是在A-A位置沿箭頭方向觀察的剖面圖，(C)是在B-B位置沿箭頭觀察的剖面圖。