[發(fā)明專利]X射線測量裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200580046148.8
• 申請日: 2005-12-08
• 公開（公告）號: CN101098660A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬場理香;植田健
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日立醫(yī)藥
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 李貴亮

1.一種X射線測量裝置，具有：

X射線源，其產(chǎn)生向檢查對象照射的X射線；

X射線檢測器，其以隔著所述檢查對象的方式與該X射線源相對配置，并將透過所述檢查對象的X射線作為測量數(shù)據(jù)進(jìn)行檢測；

過濾器，其設(shè)置在所述X射線源與所述檢查對象之間，對X射線的透過量進(jìn)行調(diào)整；

保持裝置，其保持所述X射線源和所述X射線檢測器；

旋轉(zhuǎn)裝置，其使所述X射線源及所述X射線檢測器在所述檢測對象的周圍旋轉(zhuǎn)；以及

控制處理裝置，其對由所述X射線檢測器檢測的測量數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算處理，所述測量數(shù)據(jù)是所述X射線檢測器以通過所述旋轉(zhuǎn)裝置而旋轉(zhuǎn)的、且相對于所述檢查對象的多個角度來進(jìn)行檢測的；

該X射線測量裝置的特征在于，

所述控制處理裝置對所述測量數(shù)據(jù)進(jìn)行對數(shù)變換而得到投影數(shù)據(jù)，并得到與所述得到的投影數(shù)據(jù)對應(yīng)的所述過濾器的X射線吸收量，對所述得到的X射線吸收量使用規(guī)定的變換式來計算所述過濾器的厚度，并根據(jù)所述計算出的過濾器的厚度得到與所述得到的投影數(shù)據(jù)對應(yīng)的修正系數(shù)，將所述得到的修正系數(shù)與所述投影數(shù)據(jù)相乘，重建運(yùn)算乘以了所述修正系數(shù)的投影數(shù)據(jù)，從而得到三維圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置對于所述投影數(shù)據(jù)檢索第一變換表，得到所述過濾器的X射線吸收量。

3.如權(quán)利要求2所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述第一變換表如以下制成，即：在檢查對象的測量前，在設(shè)置所述過濾器但不設(shè)置檢查對象的狀態(tài)下，得到測量數(shù)據(jù)，將該得到的測量數(shù)據(jù)進(jìn)行對數(shù)變換從而得到投影數(shù)據(jù)，改變該得到的投影數(shù)據(jù)的橫向坐標(biāo)和縱向坐標(biāo)，求得各坐標(biāo)下的投影數(shù)據(jù)的值，得到檢查對象的投影數(shù)據(jù)與過濾器的X射線吸收量的關(guān)系。

4.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置對于所述投影數(shù)據(jù)檢索第二變換表得到所述修正系數(shù)。

5.如權(quán)利要求4所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述第二變換表如以下制成，即：在設(shè)置規(guī)定的同樣厚度的過濾器且設(shè)置了任意的被攝體的狀態(tài)下，得到測量數(shù)據(jù)，將該得到的測量數(shù)據(jù)進(jìn)行對數(shù)變換，從而得到被攝體的投影數(shù)據(jù)，求得重建成像的值均一的理想的檢查對象的投影數(shù)據(jù)，將理想的檢查對象的投影數(shù)據(jù)除以被攝體的投影數(shù)據(jù)，計算出修正系數(shù)，并對多個厚度的過濾器取得修正系數(shù)，從而求得過濾器的厚度、被攝體的投影數(shù)據(jù)、及修正系數(shù)的關(guān)系。

6.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的X射線吸收量時，使用將在同樣條件下取得的投影數(shù)據(jù)相加平均后的投影數(shù)據(jù)。

7.如權(quán)利要求3所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的X射線吸收量時，在所述第一變換表的坐標(biāo)中取多點(diǎn)，并通過插值運(yùn)算計算出任意坐標(biāo)下的X射線吸收量。

8.如權(quán)利要求3所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的X射線吸收量時，將所述第一變換表保持為以坐標(biāo)為變量計算出X射線吸收量的變換式，并通過所述變換式計算出X射線吸收量。

9.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的厚度時，使用將在同樣條件下取得的投影數(shù)據(jù)相加平均后的投影數(shù)據(jù)。

10.如權(quán)利要求5所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的厚度時，在所述第二變換表中將過濾器厚度及被攝體投影數(shù)據(jù)取多點(diǎn)，并通過插值運(yùn)算計算出修正系數(shù)。

11.如權(quán)利要求5所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述控制處理裝置在獲得所述過濾器的厚度時，將所述第二變換表保持為以過濾器厚度及被攝體投影數(shù)據(jù)為變量計算出修正系數(shù)的變換式，并通過所述變換式計算出修正系數(shù)。

12.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述過濾器的形狀為左右對稱形。

13.如權(quán)利要求1所述的X射線測量裝置，其特征在于，

所述過濾器的剖面的深度方向的形狀相同。